Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-81422 #293664188 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-81422 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température conçu et développé par AMAT, expert en contrôle de mouvement. Ce réacteur puissant est particulièrement utile dans la mise au point et la production de divers matériaux à couches minces et hétérostructures, y compris des matériaux semi-conducteurs composés tels que le nitrure de gallium (GaN), le phosphure d'indium (InP) et l'arséniure de gallium d'aluminium (AlGaAs). Cet équipement polyvalent dispose d'une chambre de deux pouces le rendant adapté à une large gamme de géométries de plaquettes et est construit pour traiter des températures allant jusqu'à 450 ° C L'équipement robuste et fiable du réacteur comprend jusqu'à six ports sources ainsi que des systèmes d'injection de gaz et de collecteurs pour le pompage des réactifs de la chambre à basse turbulence. Cela permet d'utiliser un large éventail de conditions de procédé pour le dépôt de matériaux, y compris une vitesse de dépôt ajustable, des évaporateurs pulsés et des co-évaporateurs. En outre, chacun des ports est équipé de régulateurs de débit massique et de soupapes actionnées pour permettre un contrôle précis du débit de gaz à travers la chambre. Les gaz d'échappement sont également réglementés à l'aide d'ordinateurs car ils ne doivent pas dépasser un certain niveau pour des raisons de sécurité. Le système du réacteur dispose également d'une unité de contrôle avancée permettant aux utilisateurs de configurer rapidement et facilement les processus, de commencer à fonctionner et de surveiller les résultats en temps réel. Cette machine conviviale se compose d'un écran tactile qui affiche les paramètres pertinents de l'outil tels que la pression, la fonction et la température. Il fournit également une rétroaction en temps réel très fiable, permettant des processus cohérents et reproductibles. Le thermocouple intégré et le contrôle du ventilateur permettent un contrôle plus précis de la plage de température du processus. Le réacteur AMAT 0010-81422 permet aux utilisateurs de développer et de produire rapidement une large gamme de matériaux à partir de composés organiques métalliques pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce réacteur compact et puissant est idéal pour les applications dans l'intégration à très grande échelle (ULSI) et le traitement des semi-conducteurs composés.