Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0010-93423 #293650215 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0010-93423 est un réacteur avancé de gravure de plasma conçu pour effectuer le traitement des dépôts chimiques en phase vapeur (CVD). Le réacteur est un équipement multi-processus à deux chambres avec chambres supérieure et inférieure reliées par un système d'évent externe. Il a une conception de chambre peu profonde et un contrôle de la température dans chaque chambre permettant un contrôle indépendant des paramètres du processus. La chambre supérieure dispose d'une source de plasma haute densité avec une puissante source de puissance inductive. Cela permet la création de plasma uniforme et reproductible, ce qui est essentiel pour des processus de gravure réussis. Il comprend également une unité réactive de distribution de gaz pour la délivrance des gaz de procédé nécessaires afin que les paramètres de gravure souhaités puissent être atteints. La chambre inférieure contient plusieurs cibles de réaction, dont certaines peuvent être isolées, et peut également être équipée de composants ou de détecteurs de processus supplémentaires. AMAT 0010-93423 est construit dans un cadre en acier inoxydable robuste et est capable de résister à des températures élevées. Il dispose également d'une large gamme de dispositifs de sécurité, y compris des disques de rupture pour la protection contre les surpressions, des systèmes d'échappement d'urgence et des soupapes d'arrêt de gaz d'urgence. Le PLC dispose d'un contrôle automatisé et de l'acquisition de données avec un écran tactile embarqué pour accéder aux paramètres de processus et aux capacités d'enregistrement des données. Cela permet aux utilisateurs de surveiller les paramètres critiques du processus et d'ajuster les paramètres en temps réel pendant le fonctionnement. Le PLC permet également d'intégrer facilement la machine dans un plus grand réseau de surveillance ou d'automatisation des processus, et prend en charge les réseaux EtherCAT et Ethernet. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0010-93423 conviennent à un large éventail de procédés et d'applications. Il est idéal pour les applications impliquant des recettes de procédés à basse température, comme le dépôt d'oxydes, de nitrures et d'oxynitrures. Il est également capable de réaliser une gravure sur un large éventail de matériaux, y compris le silicium, l'acier inoxydable, l'InP et le SiC, et peut être utilisé pour obtenir une haute résolution et uniformité. En outre, il convient à un large éventail de tailles d'échantillons, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans des projets de recherche et de développement.