Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0040-70247 #9225693 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-70247 est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) monocouche, monocouche, conçu pour la fabrication avancée de dispositifs nanométriques. Ce réacteur permet la croissance de films diélectriques et d'autres matériaux avancés sur des substrats avec une homogénéité, une répétabilité et une évolutivité exceptionnelles. Le réacteur AMAT 0040-70247 est doté d'une chambre unique de conception mécanique qui permet un flux continu de gaz de procédé. Cette conception flexible permet un traitement monobloc avec une uniformité de température élevée pour la fabrication de films ultra-minces. Le réacteur est équipé d'un régulateur de température ENEZ-1 capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1000 ° C Ces températures élevées permettent le dépôt de couches de matériaux complexes tels que des couches diélectriques empilées et des couches de planarisation. Le réacteur est également doté d'un système de sécurité entre procédés qui empêche toute fuite accidentelle de propergol ou la contamination des particules, assurant le traitement sûr de différents types de plaquettes. De plus, APPLIED MATERIALS 0040-70247 assure une distribution précise et indépendante de la température grâce à son orifice d'injection de gaz à chaud et à ses capacités de contrôle de la vitesse de dépôt. L'unité comprend également une séquence entièrement automatisée de réglages de l'équipement, assurant la répétabilité et des performances cohérentes avec différents modes de suivi. Le réacteur 0040-70247 offre un Tableau des Matériaux Additionnels, permettant différents procédés gazeux pour la croissance d'une variété de matériaux et donc la production de couches ultra-minces sur des substrats. En outre, sa Wafer Poly-cold ainsi que ses capacités en mode vide élevé permettent le dépôt de divers matériaux avec des taux de gravure variables. AMAT/APPLIED MATERIALS 0040-70247 CVD reactor est une machine robuste et polyvalente conçue pour répondre aux exigences des procédés de fabrication de dispositifs nanométriques les plus avancés. Il offre un contrôle optimal des procédés, une grande uniformité thermique, une distribution précise des gaz, une répétabilité inégalée et un outil de sécurité avancé.