Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293655158 à vendre en France

Le réacteur de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est un outil de dépôt très avancé conçu pour fournir des capacités de traitement haut de gamme aux chercheurs et aux innovateurs. Ce dispositif sophistiqué est capable de produire des revêtements en couches minces de haute qualité à des taux rentables dans une variété d'environnements opérationnels. L'AMAT 0041-75950 est équipé d'un équipement de pulvérisation en ligne électrostatique à six axes (ESW). Ce système flexible et efficace est conçu pour déposer des couches minces sur une variété de substrats, tels que des plaquettes semi-conductrices, des métaux et du verre. L'ESW offre une extrême uniformité, un traitement à basse température et la capacité de déposer une variété de matériaux et de revêtements, y compris des alliages et des structures multicouches. Le cœur de l'unité est une source de plasma haute fréquence avancée, qui produit une large gamme de conditions traitables. Ce puissant dispositif est capable de produire du plasma à haute densité d'énergie à basse pression, permettant un traitement rapide et efficace. La conception est également conçue pour minimiser la consommation d'énergie et le bruit acoustique, permettant à l'unité de fonctionner tranquillement et de façon rentable. De plus, APPLIED MATERIALS 0041-75950 comprend une machine d'alimentation RF avancée. Cet outil utilise un modulateur modulé vectoriel haut de gamme avec un algorithme PID avancé pour ajuster rapidement et avec précision la puissance de sortie, permettant un contrôle de processus fluide et cohérent. L'actif est également capable de contrôler séparément la puissance et le chronométrage de la source haute fréquence, offrant ainsi une couche supplémentaire de flexibilité opérationnelle. Le modèle est complété par une variété de fonctionnalités supplémentaires, telles qu'un design à chanfreins multiples, un équipement intégré de contrôle des processus, une interface de contrôle basée sur PC, et un système de sécurité avancé. Cette combinaison d'ingénierie avancée et de fonctionnalités faciles à utiliser permet aux utilisateurs de maximiser leur productivité tout en maintenant l'efficacité opérationnelle. 0041-75950 est un réacteur PECVD puissant et rentable, parfait pour les chercheurs et les innovateurs qui cherchent à libérer leur potentiel.