Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293657248 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il s'agit d'un réacteur chauffé ou refroidi à température contrôlée destiné à être utilisé dans le dépôt de couches minces. Il est utilisé pour déposer des couches minces conformes et uniformes sur différents substrats. Le réacteur AMAT 0041-75950 est constitué d'une chambre de réaction enfermée dans un récipient scellé sous vide qui permet un contrôle thermique précis et un transfert de matière efficace. L'équipement est conçu pour fonctionner dans une gamme de températures allant de la température ambiante jusqu'à 1000 ° C, ce qui permet le dépôt d'une large gamme de matériaux de film. La chambre de réaction est équipée d'un suscepteur chauffé ou refroidi, d'un système de contrôle des gaz et d'une source de dépôt en couches minces. Le suscepteur peut être chauffé avec une variété de sources, y compris le bombardement électronique, le chauffage par induction, et d'autres sources. L'unité de contrôle des gaz fournit des quantités précises de gaz à la chambre de réaction pendant le dépôt, permettant un contrôle précis du processus de dépôt. La source de dépôt en couches minces est utilisée pour fournir une quantité contrôlée de matériau à la chambre de réaction, qui dépose le matériau sur le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS La machine à réacteur 0041-75950 est conçue pour être compatible avec une variété de substrats, y compris le silicium, le saphir, le quartz et le verre. Il peut être utilisé pour le dépôt de divers matériaux à couches minces, tels que le nitrure de silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure d'aluminium et d'autres matériaux. L'outil est conçu pour être convivial, avec une interface informatique facile à utiliser et des options pour le fonctionnement automatisé et manuel. L'actif du réacteur 0041-75950 permet un contrôle précis de la température, du débit gazeux et des taux de dépôt, ce qui le rend idéal pour le dépôt de films pour un large éventail d'applications dans les industries semi-conductrices, optoélectroniques et optomécaniques. Le modèle est construit avec une conception mécanique robuste et des matériaux, fournissant un fonctionnement fiable et sûr. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est l'outil parfait pour créer des films minces de haute qualité avec un contrôle précis.