Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293657998 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est un réacteur CVD thermique de qualité industrielle (Chemical Vapor Deposition) conçu pour fournir le plus haut rendement de produits pour des performances maximales. Il dispose d'une conception de chambre de travail intégrée qui assure un profil de température uniforme sur toute la zone de dépôt de la chambre pour une qualité de dépôt supérieure. Le réacteur thermique AMAT 0041-75950 utilise un moniteur de température halogène et un équipement de contrôle automatique de zone pour maintenir une température uniforme dans toute la chambre. Cela permet d'assurer un dépôt précis dans toute la chambre. Il dispose d'une large gamme de points de consigne et de températures variables qui peuvent être faciles à ajuster pour différents processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0041-75950 dispose d'un système de contrôle de la température et d'une fenêtre de dépôt de haute qualité pour une précision et une répétabilité élevées. Il comporte également une plaque de distribution de chaleur uniforme pour assurer un transfert de chaleur uniforme dans toute la chambre afin de réduire les contraintes thermiques. Cette fonctionnalité permet d'assurer une grande uniformité de l'épaisseur du film et de bons résultats globaux. 0041-75950 dispose également d'une commande de puissance Rf contrôlée par ordinateur pour un contrôle précis de la vitesse de dépôt. Cette unité, avec la machine de commande intégrée, permet de s'assurer que les paramètres de dépôt sont maintenus stables tout au long de la course. AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 dispose également d'un régulateur de gaz à haute vitesse pour assurer une introduction stable de gaz dans la chambre de travail pour un rendement maximal. Le contrôle des gaz à haute vitesse contribue également à garantir un produit de haute qualité et uniforme tout en offrant une facilité d'entretien et d'excellentes pratiques de sécurité. Le réacteur AMAT 0041-75950 dispose d'un grand espace de travail de 9 "par 9" par 3 "avec une puissance maximale de pression allant jusqu'à 8 atmosphères, permettant différentes applications telles que le dépôt de couches minces de haute précision, le recuit, le dépôt de nitrures, le dépôt de matériaux à basse température, etc. Il est également capable d'effectuer des tâches complexes telles que le dépôt de photorésistes métal-oxyde de silicium-nitrure de silicium. Il comprend également un bouton d'arrêt d'urgence monté sur le panneau avant pour plus de sécurité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0041-75950 réacteur est livré avec une suite complète d'accessoires, comprenant une plate-forme de transfert en acier inoxydable pour faciliter le chargement et le déchargement, un préchauffeur de zone de chargement pour préchauffer les échantillons avant le chargement, un outil collecteur de gaz, une alimentation électrique haute tension pour le dépôt à haute température, un dispositif collecteur refroidi par eau pour le refroidissement, un modèle de sécurité collecteur de gaz, un équipement sous vide, et un système de contrôle basé sur PC avec logiciel intégré pour un contrôle et une surveillance faciles. Le réacteur 0041-75950 est un excellent choix pour de nombreux procédés CVD en raison de son excellent contrôle de la température et de la pression, de sa fenêtre de dépôt de haute qualité et de sa plaque de distribution de chaleur uniforme, ainsi que de sa sécurité globale et de sa facilité d'utilisation.