Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293660498 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) monocouche conçu pour déposer des matériaux à couches minces de haute qualité sur un substrat. Ce réacteur est spécialement adapté au dépôt de couches minces diélectriques élastiques et durables, telles que celles utilisées dans l'électronique, les dispositifs de stockage d'énergie, et à des fins optiques. Ce procédé de CVD implique la création d'un nuage de vapeur de gaz réactifs sur le substrat à déposer par l'énergie thermique ou plasma ; ce nuage de vapeur se condense alors et adhère au substrat formant une couche mince. AMAT 0041-75950 est un réacteur CVD thermique de style horizontal, avec une conduite d'alimentation en gaz, un équipement de chauffage, des régulateurs de débit de gaz et des capteurs de gaz, ainsi que la zone de dépôt au centre de la chambre du réacteur. La conception monocouche comprend une porte élévatrice à actionnement hydraulique, qui fournit une faible surface de contact pour la chambre d'échantillonnage et un environnement non contaminant. La chambre utilise un flux gazeux de recirculation à basse turbulence, qui assure une uniformité sur la zone de dépôt. La chambre à vide pour les matériaux appliqués 0041-75950 est nominale pour une plage de pression de 1-10 Torr, et est entièrement en acier inoxydable pour la résistance à la corrosion. Le porte-substrat est chauffé électriquement à des températures allant de 0 à 1000 ° C Pour assurer la bonne vitesse de dépôt et l'épaisseur de la couche, la vitesse de température est surveillée avec un pyromètre infrarouge. 0041-75950 est conçu pour un débit de processus élevé et une durée de vie accrue des composants en raison de faibles besoins de maintenance. Il est conçu pour fonctionner en continu et sans interruption pendant un total de 8 heures avant tout entretien nécessaire. Il est livré avec une gamme de caractéristiques de sécurité, y compris un système d'obturation automatique, une unité d'échappement, et une machine à racler de chambre pour recueillir tout matériau de dépôt accumulé sur les parois de la chambre. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est conçu pour le dépôt efficace et de haute qualité de matériaux en couches minces, ce qui le rend idéal pour la production de dispositifs électroniques, de stockage d'énergie et de systèmes optiques. Ce réacteur CVD à une zone est une option extrêmement fiable, efficace et économique pour le dépôt de couches minces.