Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0041-75950 #293669536 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0041-75950 est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD). Il est conçu pour déposer des couches minces de matériaux sur des substrats. Ces couches minces sont utilisées dans une grande variété d'applications allant des cellules photovoltaïques aux dispositifs semi-conducteurs. AMAT/APPLIED a une source de plasma à double fréquence, couplée inductivement et pilotée par la source. Cette conception permet un contrôle optimal des paramètres plasmatiques, conduisant à une meilleure répétabilité et uniformité dans le processus de dépôt. Le réacteur dispose d'une source d'alimentation intégrée à fréquence variable. Cette conception permet un contrôle précis des niveaux de fréquence et de puissance du plasma. De plus, le réacteur est équipé d'un générateur de forme d'onde programmable, permettant à l'utilisateur d'adapter ses paramètres de processus en fonction de ses besoins spécifiques. Le réacteur comporte une source horizontale de magnétron et une source de gaz He. Cette conception assure l'uniformité sur l'ensemble de la plaquette, et permet un haut degré de contrôle du processus. Le réacteur supporte une large gamme de gaz réactionnels, y compris N2, O2, CO et Ar. Il est conçu pour fonctionner avec des plaquettes de production standard de deux à huit pouces de diamètre. APPLIED MATERIALS/APPLIED dispose d'une conception modulaire avec la possibilité d'échanger facilement des sources de processus. Cette flexibilité permet à l'utilisateur de s'adapter rapidement aux exigences changeantes du substrat. Le réacteur est également équipé d'un système de surveillance des procédés, permettant à l'utilisateur de visualiser le processus de dépôt en temps réel. Cela permet d'assurer des dépôts de pellicules cohérents et uniformes. AMAT/APPLIED MATERIALS/APPLIED est capable d'atteindre une large gamme de taux de dépôt, allant de 1 à 500 nm/min. Ceci permet divers taux de nucléation, critiques pour le dépôt de couches minces de haute qualité. Le réacteur est conçu pour une grande stabilité de débit et de procédé, ce qui le rend parfaitement adapté aux environnements de fabrication à haut volume. En conclusion, AMAT 0041-75950 est un réacteur PECVD très polyvalent et convivial. Il dispose d'un large éventail de sources de processus et d'une conception modulaire qui permet une interchangeabilité facile. Le réacteur est conçu pour une grande stabilité de débit et de procédé, permettant un dépôt rapide et fiable de couches minces pour un large éventail d'applications.