Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0090-02799 #293775397 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0090-02799 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour les procédés de dépôt en couches minces. Axé sur la haute performance et la précision, ce réacteur est conçu pour répondre aux exigences exigeantes des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Le réacteur dispose d'un four vertical avec plusieurs chambres de processus, permettant un haut débit et un traitement efficace des plaquettes. L'utilisation d'une orientation verticale permet une meilleure uniformité de température sur la plaquette, ce qui permet un dépôt de film de haute qualité avec un excellent contrôle de l'épaisseur et de l'uniformité. Cette conception facilite également la maintenance et l'accès aux chambres de processus, assurant une disponibilité et une productivité optimales. Les composants clés du réacteur AMAT 0090-02799 comprennent une chambre de traitement à haute température du quartz, un équipement de distribution de gaz, un système de manutention des plaquettes et une unité de régulation de la température. La chambre de procédé est faite de quartz de haute pureté pour assurer une contamination minimale et d'excellentes propriétés de transfert de chaleur. La machine de distribution de gaz est très avancée, assurant un contrôle précis des débits et des rapports des gaz de procédé pour un dépôt précis du film. L'outil de manutention des plaquettes du réacteur est conçu pour un haut débit et une automatisation, permettant un chargement et un déchargement efficaces des plaquettes. Cet actif est équipé de robotique avancée et de capteurs pour assurer un alignement et une manipulation appropriés des plaquettes tout au long du processus de dépôt. Le modèle de régulation de température du réacteur est crucial pour maintenir des températures de processus précises et uniformes, permettant le dépôt de films avec une qualité et une consistance exceptionnelles. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0090-02799 est capable de déposer une large gamme de couches minces, y compris des matériaux diélectriques, métalliques et semi-conducteurs. Sa polyvalence le rend adapté à diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs, telles que le dépôt de couches isolantes, de films barrières et de films conducteurs pour dispositifs semi-conducteurs avancés. Le réacteur supporte à la fois les procédés CVD à basse pression et à pression atmosphérique, ce qui permet une flexibilité dans la sélection des procédés en fonction des exigences spécifiques. En termes de performances, le réacteur 0090-02799 offre une excellente qualité de film, une excellente uniformité de film et un contrôle précis de l'épaisseur. Ses capacités avancées de contrôle des procédés garantissent la reproductibilité et la cohérence dans le dépôt des films, répondant aux spécifications strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Le réacteur est également connu pour sa fiabilité et sa robustesse, offrant des exigences de disponibilité et de maintenance élevées pour des opérations de production en continu. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0090-02799 est un équipement CVD haut de gamme qui répond aux besoins exigeants de la fabrication avancée de semi-conducteurs. Avec sa conception de pointe, ses caractéristiques avancées et ses performances exceptionnelles, ce réacteur joue un rôle essentiel dans la production de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération avec des fonctionnalités et des performances supérieures.