Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-20063 #293659251 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-20063 est un réacteur industriel conçu pour traiter une variété de procédés de dépôt de semi-conducteurs et de couches minces. Cette chambre de dépôt haut de gamme, basée sur la technologie des parois chaudes, est conçue pour former des films continus et uniformes sur de grands substrats à des taux de dépôt élevés. Ce réacteur utilise une configuration horizontale et verticale avec une conception de prise multiple pour la conception de divers suscepteurs. AMAT 0100-20063 est conçu avec une paroi chaude et un décapant à chaud de 5 plaquettes, permettant une variété de procédés tels que l'évaporation de catalyseur et de métal, le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), le dépôt chimique en phase vapeur renforcée par plasma (PECVD) et le dépôt en couche atomique (ALD). Ce réacteur est capable de traiter toutes sortes d'applications telles que le chauffage de réactifs, la croissance de cristaux, le dépôt de films, la pulvérisation et la gravure. Cette chambre de déposition utilise une double structure murale qui a un mur extérieur de 316L l'acier inoxydable et un mur intérieur d'oxyde de zirconium en haut et d'oxyde de magnésium au fond pour l'isolation thermale supérieure et le soutien mécanique. En outre, il dispose d'une sonde de température intégrée qui permet une lecture optimale de la température et un dépôt uniforme. Le réacteur est conçu avec un élément chauffant à impédance hélicoïdale, qui fournit un profil de température clairement défini pour la formation uniforme et complète du film. Ce système permet une précision de température et une précision de +/- 2 ° C Tous les composants sont conçus pour une durée de vie et une fiabilité exceptionnelles ; et en tant que tel, il a une stabilité à long terme de +/- 0,03 ° C par heure. APPLIED MATERIALS 0100-20063 est conçu avec un capteur différentiel de pression ainsi qu'un manomètre de cycle. Il comporte également un débitmètre de gaz qui assure un contrôle précis des gaz réactifs au sein du système. Les composants de dépôt intégrés et optimisés à l'intérieur de la chambre permettent une formation de film cohérente et une reproductibilité du procédé. Cette chambre est équipée d'une source d'ions intégrée pour le lissage des films qui permet une uniformité accrue et l'intégrité de la surface du film tout en réduisant les contaminants particulaires à l'intérieur de la chambre. De plus, une interface de télécommande en option permet une programmation de courbe de température sophistiquée et un gain de production efficace. 0100-20063 est un réacteur polyvalent et fiable qui offre une isolation thermique supérieure et une stabilité mécanique pour divers processus de dépôt. Cette chambre de dépôt haut de gamme permet des films continus et uniformes, tout en offrant une précision de température supérieure pour un contrôle fiable et répétable des procédés.