Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0100-35053 #293666633 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35053 est un réacteur utilisé dans un procédé de CVD (Chemical Vapor Deposition). Le réacteur est constitué d'une chambre annulaire à quatre électrodes RF (radiofréquence). Les électrodes sont conçues pour une polarisation continue (courant continu) lorsqu'elles fonctionnent à haute pression ; ceci est fait pour contrôler l'ionisation du gaz de procédé. La chambre est conçue pour une distribution uniforme de gaz et un contrôle de pression. Tous les bords des parois intérieures de la chambre sont conçus pour fournir un flux de gaz uniforme. L'intérieur de la chambre est également conçu pour assurer une réaction uniforme et efficace. Les quatre électrodes RF permettent également de contrôler la pressurisation et l'homogénéité du flux gazeux. AMAT 0100-35053 est capable de produire des résultats précis à température ambiante sans nécessité de refroidissement. Le procédé CVD permet des taux de dépôt élevés avec un contrôle précis de la température des gaz de procédé, permettant des taux de dépôt élevés. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0100-35053 permettent non seulement des taux de dépôt plus élevés, mais aussi un contrôle très précis du procédé. Il est conçu pour aider à maintenir une température constante dans la chambre, même lorsque des changements de température sont apportés en raison de changements dans le flux de gaz de procédé, les distinctions de pression, ou la composition du gaz. L'uniformité du procédé CVD permet d'assurer un dépôt homogène des couches. 0100-35053 est conçu pour des niveaux élevés de précision et de répétabilité, qui sont des composants critiques dans les processus de dépôt de films CVD. Cette conception comprend des systèmes de régulation de la température pour éviter le surchauffe et le sous-chauffage indésirables, ainsi que le maintien de l'équilibre de l'atmosphère. AMAT/APPLIED MATERIALS 0100-35053 est conçu pour être utilisé dans le dépôt de films métalliques et diélectriques. Cette large gamme de matériaux permet de déposer de nombreux types de films avec une précision significative. De plus, l'utilisation du procédé CVD assure une épaisseur de film très uniforme sur le substrat, ce qui est crucial pour la réalisation de dispositifs à couches minces. AMAT 0100-35053 est un réacteur CVD efficace avec des caractéristiques qui en font un leader industriel dans la production de films. Ses températures et son contrôle de pression uniformes, ses systèmes de température de précision et sa large gamme de matériaux lui garantissent un choix efficace pour un dépôt de film propre et cohérent.