Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0240-70935, 0240-70936 #9038984 à vendre en France
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ID: 9038984
Wide body loadlocks pair for Centura
Chamber left welded: 0240-70935
Chamber right welded: 0240-70936
Basic indexers, Non-ENP right and left 0240-70903
Cassette platform, non tilt-out.
Les réacteurs massivement parallèles AMAT 0240-70935 et 0240-70936 sont des outils spécialisés pour déposer une variété de matériaux sur des substrats dont le débit et la répétabilité sont les plus élevés. Construits avec une série de réacteurs à flux parallèle, ces systèmes sont capables de déposer rapidement et efficacement une variété de couches minces simples ou multicouches sur des substrats plats, ainsi que sur des substrats structurés. Grâce à la faible masse thermique, ces réacteurs peuvent produire des films de haute qualité avec une large gamme d'épaisseurs, de tailles et de résolution. En outre, tous ces procédés sont réalisés dans un environnement précis et à basse température, ce qui contribue à réduire les taux de défauts et les dommages thermiques. Ce réacteur a également des applications pour la production à haut volume et l'expérimentation basée sur la recherche. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0240-70935/70936 Les réacteurs sont équipés de commandes pour la production précise et répétable d'une grande variété de films. Les éléments de base du système sont les deux contrôleurs de débit massique indépendants. Ces régulateurs permettent un contrôle précis des différentes couches qui seront déposées, de l'épaisseur de chaque couche et des réglages de température requis. Pour le procédé de dépôt, le réacteur utilise une méthode de dépôt chimique électrothermique en phase vapeur (également appelée « dépôt électrochimique en phase vapeur de précision »). Ce procédé fournit une plus grande précision des propriétés du film que d'autres méthodes comme la pulvérisation ou le dépôt physique en phase vapeur. La chambre de procédé du réacteur est elle-même équipée d'une vanne à 4 voies, d'un orifice de vide et d'un injecteur de gaz pour un contrôle précis du processus de dépôt et pour s'assurer que seuls des dépôts uniformes de haute qualité peuvent être effectués. Afin de s'assurer que les propriétés du film restent toujours cohérentes, la pression de la chambre est également soigneusement régulée. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS 0240-70935/70936 dispose d'un système de ventilateur électrostatique autonome qui permet d'assurer des flux et des pressions fiables et répétables tout au long du processus de dépôt. Afin d'aider à un suivi précis du processus, un moniteur d'épaisseur en ligne en temps réel (ROTM) a été inclus pour permettre des mesures précises de l'épaisseur du film. Ces réacteurs sont également personnalisables, avec la possibilité d'incorporer des composants supplémentaires pour les futures expansions. Par exemple, un contrôleur peut être ajouté pour réguler les processus de gravure, de recuit thermique rapide et de gravure prolongée. Avec ces considérations en tête, AMAT 0240-70935/70936 égalent massivement des réacteurs peut opérer comme le 45 tours, les processus autonomes ou dans le cadre d'un système de multimodule intégré. Les caractéristiques uniques de ces réacteurs en font l'outil parfait pour ceux qui cherchent à déposer une variété de couches minces simples ou multicouches de la plus grande uniformité, épaisseur et résolution dans un environnement précis et à basse température.
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