Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-38209 #293661400 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0242-38209 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces sur des substrats. Ce type de réacteur fonctionne sur le principe du chauffage des gaz sources volatils - souvent des composés organométalliques ou organosiliciés - à une température élevée où ils se décomposent ensuite pour former des espèces réactives qui se déposent ensuite sur le substrat. AMAT 0242-38209 est utilisé pour la livraison de précurseurs in-situ et ex-situ. Il est également capable de délivrer simultanément jusqu'à trois précurseurs, ce qui permet de contrôler plus précisément les vitesses de réaction. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 0242-38209 est un équipement à plaques parallèles horizontales qui contient deux chambres à quartz empilées verticalement alignées. La chambre supérieure contient deux chauffages au carbure de silicium et un élément chauffant à mailles métalliques qui sont utilisés pour chauffer la chambre et le substrat. Le substrat est placé sur un suscepteur métallique chauffé qui maintient le substrat à une distance de travail fixe des parois en quartz et contribue à faciliter un chauffage uniforme à travers le substrat. La chambre inférieure est séparée en deux sections, chaque section étant partitionnée par une plaque subsidiaire. La partie supérieure contient un injecteur de rinçage qui introduit les gaz précurseurs dans la chambre inférieure. La partie inférieure sert à contrôler le processus de pompage, à transférer les gaz de l'injecteur et à chauffer l'environnement réactionnel. Le système de chauffage du réacteur 0242-38209 est une combinaison de chauffages électriques et radiants. La plaque de suscepteur contient deux éléments isolés l'un de l'autre et reliés par une unité de chauffage par induction. Cette unité de chauffage est utilisée pour fournir un chauffage uniforme et efficace à travers le substrat, assurant des dépôts de film homogènes. Une série de buses réglables sont également présentes dans la machine pour contrôler les dépôts sur le substrat. AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0242-38209 contient également une série de fenêtres dans la chambre supérieure de quartz qui servent à surveiller le processus de dépôt. Ces fenêtres sont faites de saphir et de quartz et ont une couche, recouverte de carbure, revêtement diélectrique qui permet un accès optique au procédé tout en assurant une protection contre la contamination. Un spectromètre Raman avancé est intégré dans l'outil AMAT 0242-38209 pour mesurer avec précision la composition des films. De plus, APPLIED MATERIALS 0242-38209 contient un actif d'imagerie qui peut être utilisé pour évaluer la morphologie et la géométrie de surface du substrat. Ce modèle d'imagerie permet un contrôle précis du processus de dépôt, ce qui conduit à son tour à des dépôts de film de haute qualité. Dans l'ensemble, le réacteur CVD 0242-38209 est un équipement de dépôt de couches minces très avancé. Sa combinaison d'éléments chauffants, d'injecteurs spécialisés et de fenêtres permet un contrôle précis du processus de dépôt. Son spectromètre Raman et ses systèmes d'imagerie permettent également de contrôler avec précision la composition et la morphologie des films. De ce fait, ce type de réacteur est souvent utilisé dans la réalisation de dispositifs semi-conducteurs, de circuits intégrés et de divers autres produits.