Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-73400-1 #9129478 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-73400-1
ID: 9129478
Frequency of operation: 13.0 - 14.0 MHZ.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 0242-73400-1 est un réacteur à double chambre, à basse pression, à dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il est conçu pour déposer efficacement des couches minces de nombreux matériaux, tels que des diélectriques, des nitrures, des oxydes conducteurs et d'autres métaux sur toutes sortes de substrats semi-conducteurs. La caractéristique principale de ce réacteur est sa taille compacte et sa flexibilité. Il peut être adapté à différentes configurations de chambres de processus. Le réacteur est équipé de deux chambres de procédés, la première étant la chambre primaire. La chambre primaire est le cœur du processus CVD, et est celle qui abrite le substrat. Il est composé d'un tube à quartz, d'un porte-étage/substrat, d'une zone d'échappement et d'une section chauffée. La chambre primaire et la deuxième chambre sont munies de vannes manuelles permettant l'introduction contrôlée de gaz. Le tube du réacteur à quartz est responsable du transport des gaz pendant le processus de dépôt, et est capable de fonctionner avec des températures allant de 25 à 1000 ° C La section chauffée est celle où le substrat est chauffé pour le procédé de dépôt. Il est relié à une bobine chauffante et réglable entre 0 et 1000 ° C Le porte-substrat lui-même est équipé d'un système d'échappement pour assurer un bon contrôle de la pression pendant le processus de dépôt. La chambre secondaire est utilisée pour traiter les gaz avant leur introduction dans la chambre primaire. Il est composé d'un bloc chauffant, d'une zone d'introduction de gaz, d'un collecteur et d'un filtre. La zone d'introduction de gaz permet l'introduction contrôlée de gaz, ainsi que l'introduction de produits chimiques tels que le silane et les chloroaluminates. AMAT/AKT 0242-73400-1 est un réacteur idéal pour le dépôt de couches minces sur toutes sortes de substrats semi-conducteurs. Sa petite taille et la possibilité de s'adapter à différentes configurations de chambre permettent une grande flexibilité. En outre, sa capacité à travailler avec une large gamme de températures et de gaz lui permet de déposer une variété de matériaux sur des substrats, ce qui permet une grande maîtrise des processus.
Il n'y a pas encore de critiques