Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0290-20094 #9173620 à vendre en France
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ID: 9173620
Vectra IMP chamber
P/N Description
0010-21831 B101 Heater
0010-02267 Vectra IMP adapter
0223-21783 Shutter kit
0010-13622 IMP Coil match
0010-13627 Bias match
0010-21669 G12 Source
0010-21676 Magnet
Includes:
HFV8000
CX600S
All harnesses
Water flow switches
Fittings.
Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0290-20094 est un outil innovant et avancé utilisé dans le traitement des semi-conducteurs. Grâce à sa conception unique, le réacteur AMAT 0290-20094 offre une meilleure capacité à réaliser des processus de haute qualité qui peuvent être adaptés pour optimiser les performances des dispositifs. Il s'agit d'un outil de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température qui consiste en une conception en deux chambres contrôlée par ordinateur. La première chambre contient un substrat tel que des plaquettes de silicium et est équipée d'un réacteur à paroi chaude à haute température. La deuxième chambre abritait une boîte à gaz contenant des gaz de matière première, tels que le silane et l'ammoniac, servant à déposer le matériau en couche mince sur le substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 0290-20094 utilise un procédé CVD basse pression qui assure une homogénéité supérieure de part et d'autre du substrat. Le procédé est extrêmement précis et reproductible grâce au réacteur CVD à paroi chaude et à son transfert thermique uniforme vers le substrat. De plus, le réacteur 0290-20094 facilite l'incorporation de la manipulation automatisée des plaquettes et la programmation des opérations CVD automatisées qui facilitent considérablement le traitement. Il offre également une surveillance du procédé qui peut être mise en place pour optimiser la température, les débits de gaz et la vitesse de dépôt du film. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 0290-20094 est un outil CVD très polyvalent qui devient de plus en plus populaire en raison de ses performances puissantes. Avec ses caractéristiques de conception avancées, le réacteur offre un contrôle de dépôt de film supérieur et une grande cohérence de processus qui est essentiel pour la fabrication de dispositifs de haute performance. Le réacteur AMAT 0290-20094 est un outil fiable et efficace qui peut être utilisé avec divers substrats et gaz pour faciliter des processus complexes et fournir des résultats supérieurs.
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