Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 0290-20094 #9203683 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 0290-20094 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de qualité industrielle conçu pour le dépôt de couches minces à l'aide de divers gaz de procédé. Le réacteur mesure 96 pouces de largeur, 42 pouces de profondeur et 67 pouces de hauteur, et est capable de produire des lots jusqu'à 7 Wafers par charge avec 700mm de diamètre. Il dispose de deux chauffages en ligne indépendants avec contrôle de température indépendant pour une homogénéité thermique maximale, assurant que le substrat est correctement traité avec une uniformité constante. Son intérieur est composé de deux composants : la cuve du réacteur et le collecteur de gaz. La cuve du réacteur est conçue pour offrir un environnement de flux gazeux presque idéal, et l'intérieur de son cylindre est doublé de Pyrolitic Graphite (PG) - un matériau très réfléchissant, électriquement conducteur qui aide à concentrer les gaz sources et à produire une formation de film uniforme. Le collecteur de gaz est une grande chambre située au sommet du réacteur, où les gaz sources sont injectés dans le réacteur sous vide à l'aide d'une entrée plus plusieurs lignes de transfert. Le réacteur utilise la technologie du four à haute température, ce qui permet d'utiliser des conditions de processus plus agressives qui produisent rapidement des films épais et uniformes avec une bonne morphologie. Les sources d'énergie RF et DC sont faites de matériaux de haute qualité et peuvent atteindre des niveaux de puissance allant jusqu'à 2000W, fournissant un profil de température plus bas homogène et un chauffage uniforme sur tout le substrat, ce qui entraîne une stabilité et un rendement du procédé plus élevés. Afin d'assurer un débit élevé et un temps d'arrêt minimal, le système comprend deux chambres de verrouillage à quartz pour le chargement et le déchargement des plaquettes et un système de gestion des gaz d'échappement qui élimine les composants volatils de l'environnement. De plus, AMAT 0290-20094 est compatible avec une variété de régulateurs de débit de gaz pour surveiller le processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur CVD 0290-20094 est un outil fiable et puissant pour le dépôt d'une large gamme de matériaux sur des plaquettes et autres substrats. Il fournit des films uniformes de haute qualité et bénéficie d'un design modulaire, permettant un processus personnalisable et une excellente évolutivité. En tant que tel, il est devenu un choix de premier plan pour les dépôts de CVD de haut volume et de qualité de production dans l'industrie des semi-conducteurs.