Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 1600 #9156161 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600 est un système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à grande échelle conçu pour les applications semi-conductrices. Il s'agit d'un réacteur industriel de pointe pour la production de matériaux et de structures en couches minces. Les systèmes avancés de la technologie de dépôt offre une uniformité supérieure monobloc, un excellent contrôle des processus, un fonctionnement fiable et un faible coût de possession. Le réacteur est équipé d'un canon à électrons refroidi au gaz de grande puissance relié par un amplificateur de canon thermionique qui permet un contrôle précis de la température du substrat, de la pression de la chambre, des flux gazeux et de la vitesse de dépôt. Un collier de gravure aide à réduire la contamination par les particules, tandis que sa conception à base de tambour métallique améliore encore l'uniformité et les couches minces à base de cuivre. Le réacteur peut accueillir une variété de substrats jusqu'à 152mm de diamètre, y compris des plaquettes de silicium, de l'arséniure de gallium, du quartz, du verre et de l'oxyde d'aluminium. Il peut traiter une grande variété de matériaux, des métaux semi-conducteurs tels que l'aluminium, le cuivre et le nickel aux diélectriques tels que le nitrure de silicium et l'oxyde d'aluminium. Le système est équipé d'un certain nombre de fonctionnalités avancées, telles qu'un réglage automatisé des sources, un contrôle du niveau de vide, un diagnostic plasma, une livraison automatisée de gaz et des scripts d'essai pour aider à simplifier le processus. L'écran tactile couleur et l'interface utilisateur graphique intuitive (interface graphique) permettent aux utilisateurs de surveiller rapidement et avec précision tous les paramètres de l'exécution. En outre, le réacteur AKT 1600 est soutenu par un large éventail d'options, y compris plusieurs chambres de serrure de charge, chambres de processus parallèles, et un module atmosphérique pour le pré- et post-traitement des échantillons. Dans l'ensemble, le système CVD AMAT AKT1600 est capable de produire des films minces de haute qualité et peu coûteux avec une excellente uniformité. Ses fonctionnalités avancées et son interface graphique facile à utiliser en font un choix idéal pour les procédés nécessitant une qualité de dépôt et une fiabilité supérieures.