Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS (3) Chambers for P5000 #293636202 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS (3) Chambers for P5000
ID: 293636202
Taille de la plaquette: 8"
8" PLIS USG TEOS.
AMAT (3) Chambers for the P5000 Reactor est un outil performant, trois chambres, de procédé avancé dédié à la fabrication au niveau des puces. Cet équipement offre un débit accru et des temps de cycle rapides avec la plus haute qualité pour répondre aux exigences les plus exigeantes des clients. Ce Réacteur P5000 fournit des traits uniques et des capacités qui le mettent à part les systèmes compétitifs. Le plus impressionnant d'entre eux est le système avancé multi-étapes pour des processus rapides et répétables. Les trois chambres peuvent être configurées pour la gravure et le dépôt, avec des procédés supplémentaires tels que le dépôt de pulvérisateurs, une capacité de traitement externe supplémentaire et des systèmes de refroidissement avancés disponibles. En combinant les innovations matérielles et logicielles, l'unité fournit un maximum de gestion de débit et de débit, ce qui se traduit par une optimisation des processus. Le flux de travail du P5000 est conçu pour produire des résultats reproductibles et de haute qualité avec des temps de cycle toujours prévisibles. Le processus intègre les modules de chambre et les séquences de cycles de vide, le contrôle de la température, la manutention à distance de la table, et la détection avec la programmation du processus. Il offre également une répétition sélective automatique, ce qui permet à l'utilisateur d'exécuter plusieurs recettes identiques avec des paramètres variables. Le P5000 bénéficie de meilleures températures de chambre en classe, le contrôle de pression, et l'uniformité. La régulation de la température de la chambre est réalisée à l'aide d'un régulateur de température avancé PID 18 zones, tandis que la régulation de pression offre des profils de pression stables et répétables sur une large gamme de niveaux de pression. De plus, l'outil comprend une fonction de cartographie thermique unique pour les chambres de gravure et de dépôt, qui permet un meilleur contrôle du processus et la répétabilité des paramètres critiques de niveau de plaquette sur l'ensemble de la plaquette. Cette fonction de cartographie thermique offre également des temps de cycle plus rapides et une marge de processus accrue. Le P5000 comprend également des fonctionnalités supplémentaires telles que la manutention et le placement des plaquettes de précision, le chargement/déchargement automatique avec accès aléatoire, la surveillance en temps réel de la couche cible et la surveillance avancée des processus. En outre, le modèle dispose de diagnostics avancés et de vérification des défauts pour améliorer les rendements et la fiabilité des processus, ainsi que des capacités avancées d'acquisition et de récupération de données pour une optimisation plus poussée des processus. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS (3) Chambres pour le réacteur P5000 est un outil à trois chambres haute performance qui fournit un débit accru et des temps de cycle rapide avec la plus haute qualité, tout en offrant des températures de chambre de meilleure qualité et des marges de processus constantes. Grâce à sa fonction unique de cartographie thermique, l'équipement permet de maximiser les rendements et la fiabilité des processus. Ce réacteur a également la flexibilité nécessaire pour supporter de multiples configurations, offrant à l'utilisateur le contrôle ultime et la répétabilité de son procédé.
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