Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS (3) CVD Chambers for P5000 #293660269 à vendre en France

AMAT (3) CVD Chambers for P5000 permet le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), permettant aux utilisateurs de créer des couches superficielles minces pour diverses utilisations. Ce réacteur CVD comporte trois chambres avec des zones de dépôt individualisées et convient pour le dépôt de métaux, d'oxydes, de nitrures et d'autres matériaux. Le P5000 combine avec succès plusieurs technologies pour les processus de gravure et CVD dans un système unique, conçu pour améliorer le débit et la productivité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS (3) CVD Chambres pour P5000 dispose de trois chambres de dépôt : une chambre de dépôt à basse température, une chambre de dépôt à haute température et une chambre de dépôt renforcée par plasma. La chambre basse température est équipée d'un système de transport de plaquettes chauffées, permettant une plage de température de 20-200 ° C pour le dépôt de matériaux déposés à partir de sources liquides et solides. La chambre à haute température permet le dépôt à des températures allant jusqu'à 1000 ° C, permettant le dépôt d'une grande variété de matériaux tels que les métaux, les nitrures, les oxydes, les alliages et les polymères. La troisième chambre est une chambre de dépôt renforcée par plasma, qui utilise des procédés de dépôt en phase gazeuse induits par plasma pour des matériaux qui ne peuvent être déposés avec succès à partir d'une source liquide ou solide. Les trois chambres sont équipées chacune de leurs propres sources d'énergie RF individualisées, qui permettent une optimisation plus facile des processus. Le logiciel avancé et la base de données des recettes de superposition et d'alignement des plaquettes permettent d'assurer aux utilisateurs le plus haut niveau de contrôle des processus. Toutes les fonctions de mesure et d'analyse conviviales réduisent le temps de traitement et permettent à l'utilisateur de contrôler avec précision la température du substrat et les taux de dépôt. AMAT/APPLIED MATERIALS (3) CVD Chambers for P5000 supporte une variété de matériaux et de types de procédés, permettant une gamme de possibilités de produits. Ce réacteur CVD fournit également aux utilisateurs des processus continus multi-zones, qui aident à créer des structures de films plus complexes et d'autres structures, telles que des caractéristiques nanométriques. La chambre comprend également des dispositifs de sécurité standard, assurant une protection adéquate des opérateurs pendant le fonctionnement. AMAT (3) CVD Chambers for P5000 offre un ensemble technologique CVD de pointe dans lequel les utilisateurs peuvent déposer une variété de matériaux sur différents substrats. Ce réacteur CVD de pointe offre aux utilisateurs une productivité, une flexibilité et une facilité d'utilisation élevées, tout en restant rentable. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire du P5000 un excellent choix pour toute entreprise ayant besoin d'un réacteur CVD fiable et efficace.