Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3020-00595 #293668137 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 3020-00595 est une chambre de réaction en acier inoxydable à double paroi et à action avancée, conçue pour fournir un environnement contrôlé pour les processus délicats de gravure et de dépôt des semi-conducteurs. Ce type de réacteur offre une haute capacité de température et de pression pour des plages de fonctionnement étendues ainsi qu'une excellente uniformité de température. Il dispose également d'un design unique, facile à nettoyer et d'un équipement de filtration puissant pour un environnement de processus idéal. L'AMAT 3020-00595 comprend deux composants distincts : une chambre de réaction en acier inoxydable à double paroi et étanche et un couvercle de confinement monté sur le dessus. Les parois doubles de la chambre de réaction sont en acier inoxydable et ont une haute température, haute pression (HT/HP) capacité. Le couvercle de confinement monté sur le dessus est en matériau isolé et protège la chambre de réaction de tout réactif volatil. Les deux composants sont scellés ensemble par un joint de haute résistance et permet d'étendre les plages de fonctionnement. La chambre dispose également d'un système d'évent mécanique, qui aide à contrôler la température, la pression, l'humidité, et d'autres conditions de processus dans la chambre. L'unité d'évent contribue à améliorer l'uniformité de la réaction, permettant aux processus sensibles de se dérouler de manière sûre et efficace. La conception unique des matériaux appliqués 3020-00595 permet un entretien et un nettoyage faciles. Il dispose d'un bouchon de vidange en option qui le rend facile à vidanger ou à changer de produits chimiques, et les surfaces intérieures électro-polies sont faciles à nettoyer et résistent à la corrosion. Le canal entre les parois de la chambre et le couvercle crée un outil de filtration efficace qui capture les matières volatiles et les empêche d'entrer dans le procédé. 3020-00595 est un réacteur robuste et fiable conçu pour fonctionner dans un large éventail de conditions, effectuant des processus délicats de gravure et de dépôt des semi-conducteurs avec un contrôle précis. Sa conception robuste à double paroi et son puissant atout de filtration garantissent un environnement de processus idéal. La conception facile à entretenir et à nettoyer et le modèle de prise de vidange en option permettent un entretien et un nettoyage pratiques.