Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9379475 à vendre en France
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ID: 9379475
Style Vintage: 2008
PECVD System
G-SiO
(4) Heat chambers
(4) ADVANCED ENGERY RF-50SWC RF Generators
Heat exchanger
Scrubber
(4) DC Power supplies
Pump:
ALCATEL ADP 122L
EBARA A200W.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 est un réacteur avancé à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à base de silicium. Conçu pour permettre la fabrication à haut débit de composants avancés d'éclairage, optiques, semi-conducteurs et optoélectroniques, AKT 3500 est un outil de dépôt avancé unique. Il offre des procédés très reproductibles, fiables et efficaces pour le dépôt de matériaux durs et durables sur une variété de matériaux allant du verre au métal en passant par les matériaux semi-conducteurs. AMAT AKT-3500 est conçu pour tirer le meilleur parti du procédé AKT propriétaire Advanced Low Temperature (ALT). Ce procédé utilise de multiples niveaux de substrats chauffés et permet le dépôt de silicium à des températures plus basses, ce qui permet un contrôle plus complet du procédé de dépôt. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 3500 est capable de réaliser un dépôt ultra-mince de couches métalliques et nitrures, nécessaires pour des applications telles que des plaques guides de lumière et des composants optiques. AKT AKT-3500 est construit sur un nouvel équipement de dépôt sous pression atmosphérique. Il s'agit d'un système de dépôt à flux gazeux, basé sur une conception unique qui utilise de multiples sources de dépôt, des flux de gaz contrôlés avec précision et une unité de filtration électrostatique unique pour la croissance des films à haut débit. Ceci permet une excellente homogénéité des couches déposées par rapport aux systèmes CVD classiques. La machine AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 dispose également d'un nouvel outil de commande séquentiel des obturateurs. Cela permet d'organiser plusieurs étapes individuelles du processus de dépôt avec une précision et un contrôle accrus. Cette combinaison avec un actif de chauffage/refroidissement intégré offre une résilience et un débit optimaux pour des paramètres de processus délicats. LES MATÉRIAUX APPLIQUÉS AKT-3500 est un réacteur polyvalent, permettant une variété de configurations de dépôt. Il est idéal pour les applications optoélectroniques telles que les LED, les guides de lumière, les composants optiques et plus encore. Avec la capacité de déposer une variété de matériaux et de contrôler les propriétés de dépôt, AKT-3500 réacteur peut fournir d'excellents résultats.
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