Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380509 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 est un système polyvalent, polyvalent, dynamique, flexible et à haute température de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il permet un contrôle précis des conditions du procédé et peut être utilisé pour déposer des films pour toute une gamme d'applications, y compris les applications pour téléphones intelligents, les nouvelles technologies d'affichage, la fabrication de cellules solaires et la détection de couches minces. AKT 3500 est conçu avec une chambre CVD multi-étages à trois zones. La chambre est équipée de composants de chauffage multiples individuels, permettant un contrôle thermique indépendant de chaque zone. Cela permet des températures de processus différentes pour différents films ou combinaisons de films. Il permet également un recuit à haute température de films diélectriques ou autres semi-conducteurs, augmentant l'homogénéité des films. AMAT AKT-3500 utilise des diagnostics avancés pour la surveillance en temps réel de paramètres de processus tels que l'épaisseur du film, la distribution, les structures cristallines et la propreté. Cela garantit des rendements de production élevés avec des rejets minimes. Le réacteur est également équipé d'un système multi-gaz d'entrée, permettant une composition flexible de gaz d'entrée pour créer des films uniformes avec une efficacité de processus élevée. Logiciel à bord du réacteur fournit à ses utilisateurs une large gamme de recettes de processus en temps réel. Cela peut être personnalisé et ajusté en fonction des applications de processus et des exigences des plaquettes. APPLIED MATERIALS AKT-3500 dispose également d'une gamme complète de dispositifs de sécurité. Il est conçu avec un système automatique de transfert de plaquettes sans contact pour réduire la contamination des particules. Il est également livré avec un dos CVD avancé sécurisé avec des emboîtements et des boucliers de sécurité. Cela permet une concentration sûre et sécurisée des mélanges gazeux au cours du processus CVD. En conclusion, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 est conçu pour assurer un contrôle fiable, flexible et précis des conditions de traitement. C'est un équipement puissant et polyvalent qui peut être utilisé pour déposer des films pour une gamme d'applications tout en garantissant une qualité et des rendements élevés.