Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380514 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 est un type de réacteur chimique développé par AKT Inc. C'est un équipement avancé de production de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) avec des plasmas à basse température. Ce type de dépôt est utilisé pour déposer sur un substrat des couches minces de divers matériaux, principalement du silicium et de l'azote. AKT 3500 est un système polyvalent, polyvalent et évolutif qui peut être utilisé pour fabriquer une grande variété de produits, y compris des composants semi-conducteurs, des écrans et des optiques. Ce réacteur dispose d'une chambre rectangulaire montée horizontalement pour le traitement de substrats jusqu'à 8 « X 8 ». La chambre dispose de deux sources de pulvérisation à double magnétron (DMS) et de sources de pulvérisation à magnétron multi-sources qui peuvent être utilisées pour générer l'environnement plasmatique désiré. De plus, l'unité est capable d'atteindre des températures de substrat de 10 ° C à 200 ° C, permettant un contrôle précis du processus de dépôt. Le réacteur est équipé d'une variété de technologies de pointe conçues pour réduire les coûts et augmenter l'efficacité. En particulier, la technologie de chambre à vide sans fenêtre qui est utilisée dans AMAT AKT-3500 contribue à réduire la perte d'énergie thermique, réduisant ainsi la consommation globale d'énergie, ainsi que la contamination des particules. Une technologie de pointe supplémentaire, la distribution flexible des gaz, permet un contrôle précis du débit de gaz précurseur, ce qui contribue à optimiser les processus en couches minces. La machine utilise une technologie brevetée de source d'arc cathodique, qui se traduit par des revêtements uniformes de haute qualité avec des taux de dépôt élevés. Ceci est dû à l'arc qui est généré entre l'Anode et la Cathode, résultant en plasma de haute énergie capable de déposer des couches minces sans contaminants. Cette technologie offre également une très grande homogénéité dans le dépôt de couches minces sur l'ensemble du substrat. APPLIED MATERIALS AKT-3500 est un outil de pointe et personnalisable conçu pour le dépôt de couches minces de haute précision. Il offre un large éventail de caractéristiques, de technologies et de méthodes de contrôle qui en font un choix idéal pour de nombreuses applications de production. Cet atout de pointe élimine également bon nombre des limites des systèmes PECVD traditionnels, offrant aux utilisateurs une solution beaucoup plus efficace et rentable.