Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380515 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 est un réacteur avancé à basse température PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) conçu pour la production de structures semi-conductrices. Ce réacteur présente des avantages importants par rapport aux systèmes de dépôt traditionnels, tels qu'un débit plus élevé et une meilleure uniformité des dépôts. AKT 3500 intègre un système générateur RF à deux étages unique, qui utilise deux sources RF indépendantes en cascade pour générer une source d'énergie RF à haute fréquence (HF) et accordable avec commande indépendante du générateur. Ceci permet à l'utilisateur de configurer et d'affiner le processus de dépôt avec un contrôle précis de la température de la phase gazeuse et de la vitesse de dépôt du matériau cible. AMAT AKT-3500 intègre une chambre de réaction monobloc avec une variété d'injecteurs de gaz axiaux et radiaux pour faciliter le processus de dépôt. Le rayon de la zone d'injection est réglable, ce qui permet à l'utilisateur d'optimiser l'uniformité et le débit de dépôt. En outre, la chambre de réaction comporte des zones de champ de pointe pour assurer une répartition uniforme des réactifs et un dépôt uniforme efficace du matériau cible. En plus du générateur RF et de la chambre de réaction, AKT-3500 dispose également d'une combinaison complexe de systèmes d'alimentation, de contrôle et de diagnostic. Ces systèmes permettent à l'utilisateur de surveiller et d'ajuster l'environnement du réacteur pour des performances optimales tout en maximisant le débit et l'uniformité des matériaux. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 offre également des fonctionnalités de sécurité avancées, notamment un système TMF (couple monitoring feedback) et une protection plasma basse température. Ce garde-corps permet de maintenir la température de la chambre à des niveaux optimaux tout en évitant les zones dangereuses et surchauffées à l'intérieur de la chambre. Dans l'ensemble, AMAT 3500 est un réacteur PECVD très efficace et intuitif capable de répondre aux besoins de nombreux procédés commerciaux de production de semi-conducteurs. Son générateur RF avancé à deux étages, sa zone d'injection configurable avec précision et ses systèmes de sécurité intégrés permettent d'assurer un dépôt précis des matériaux tout en optimisant le débit. APPLIED MATERIALS AKT-3500 est un choix idéal pour ceux qui recherchent une solution PECVD fiable et polyvalente.