Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380518 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 est un équipement de réacteur à plasma de haute précision conçu pour les processus d'implantation ionique. Il dispose d'un système de planification programmable qui permet un contrôle précis de la distribution de la dose et du courant. Cette unité est largement utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. L'AKT 3500 se compose d'une alimentation électrique, d'une source de plasma et d'une chambre à vide. L'alimentation est chargée de contrôler l'alimentation de la source de plasma. Il peut être programmé pour réguler la quantité d'énergie fournie au processus. La source de plasma produit un plasma de haute énergie qui est ensuite ionisé par l'alimentation. Il en résulte un courant de particules ionisées qui peut être utilisé pour implanter des ions dans le matériau à traiter. La chambre à vide est un récipient étanche et étanche où se produit le processus. Le matériau à traiter est placé dans l'enceinte puis chauffé à la température désirée pour faciliter l'implantation des ions. Le processus d'implantation nécessite typiquement un vide de 10-6 Torr. Une fois cette pression atteinte, l'alimentation est activée et le processus d'ionisation commence. Les particules sont accélérées à travers la machine, puis heurtent le matériau, ce qui conduit à l'implantation des éléments désirés. L'outil de planification programmable d'AMAT AKT-3500 permet un contrôle précis du processus. Les paramètres tels que la densité de courant et la dose peuvent être programmés pour définir les résultats souhaités. L'actif est équipé d'un maximum de quatre canaux de traitement distincts, chacun avec sa propre chambre, permettant le traitement simultané de plusieurs plaquettes ou substrats. AMAT 3500 est un modèle de réacteur efficace et précis qui peut être utilisé dans une variété d'applications industrielles. Il est conçu avec une interface conviviale et permet un contrôle précis de la dose et du courant lors d'un processus d'implantation ionique. Cela permet d'adapter le processus d'implantation aux besoins spécifiques des clients et d'assurer l'uniformité des processus. Cet équipement est un outil inestimable dans le traitement des plaquettes semi-conductrices et est largement utilisé dans l'industrie.