Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380521 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 3500 est un réacteur à plasma semi-conducteur de pointe utilisé dans la fabrication de composants électroniques avancés. Ce réacteur est spécialement conçu pour les procédés nécessitant une grande précision et un contrôle de l'épaisseur et de l'uniformité du film, ce qui en fait un choix populaire pour les installations de fabrication de semi-conducteurs dans le monde entier. Le réacteur utilise une combinaison de techniques de dépôt chimique en phase vapeur renforcée par plasma (PECVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des couches minces de divers matériaux sur des plaquettes de silicium. Ceci permet de créer des structures multicouches complexes aux propriétés adaptées, telles que la conductivité, la constante diélectrique et les caractéristiques optiques. Une des caractéristiques clés du réacteur AMAT 3500 est sa conception à double chambre, qui permet des étapes de traitement séquentielles sans transfert de plaquettes entre les chambres. Cela minimise la contamination et améliore l'efficacité du procédé, conduisant à des rendements plus élevés et à une meilleure performance globale du dispositif. Le réacteur est équipé d'une gamme de contrôles de processus avancés, y compris la surveillance en temps réel des débits de gaz, de la pression, de la température et des niveaux de puissance RF. Ces paramètres peuvent être ajustés avec précision pour optimiser la qualité et l'uniformité des films, assurant des résultats cohérents sur de grands lots de plaquettes. Le réacteur APPLIED MATERIALS AKT-3500 est compatible avec une large gamme de gaz précurseurs, y compris le silane, l'ammoniac, l'oxygène et divers composés organiques métalliques. Cette polyvalence permet le dépôt d'un ensemble varié de matériaux, tels que le nitrure de silicium, l'oxyde de silicium, le nitrure de titane et les alliages d'aluminium, pour répondre aux exigences spécifiques des différentes structures et applications des dispositifs. En outre, le réacteur dispose d'un système de manutention rapide des plaquettes capable de traiter jusqu'à 200 plaquettes par heure, ce qui le rend idéal pour les environnements de production à haut volume. Ceci, associé à ses performances fiables et à son faible coût de possession, fait d'AMAT AKT-3500 une solution rentable pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à accroître leurs capacités de production. En termes de capacités de procédé, le réacteur peut atteindre des épaisseurs de film allant de quelques nanomètres à plusieurs microns avec une répétabilité de niveau sous-angstrom. Ce niveau de précision est essentiel pour la fabrication d'appareils électroniques de pointe, tels que les puces logiques et mémoire avancées, les dispositifs MEMS et les cellules photovoltaïques. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS AKT-3500 établit une norme élevée pour les équipements de traitement des semi-conducteurs, combinant des technologies de pointe, un contrôle précis et un débit élevé pour permettre la production de composants électroniques de nouvelle génération avec des performances et une fiabilité inégalées. Ses antécédents dans l'industrie en font un choix de confiance pour les principaux fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de l'innovation dans le domaine de la microélectronique.