Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7700 #9269447 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Le réacteur 7700 est un outil de haute précision à chambres multiples pour le dépôt de couches minces pour une application semi-conductrice avancée. Il supporte de multiples technologies de processus et de multiples substrats pulvérisés. Cet équipement fournit un traitement précis, efficace et répétable. Les applications comprennent le PVD (dépôt physique en phase vapeur), le CVD (dépôt chimique en phase vapeur), le LPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à basse pression), le MOCVD (dépôt chimique en phase vapeur métallique) et le dépôt en couche atomique (ALD). Il utilise des modules de processus avancés pour améliorer les performances et l'accès aux capacités de processus supplémentaires. Le module de microscopie à microscopie par caméra assure l'intégrité du processus de dépôt à l'échelle nanométrique avancée. Il peut également utiliser plusieurs cibles de pulvérisation différentes à l'intérieur du système et prendre en charge jusqu'à quatre processus de co-pulvérisation. Le réacteur AMAT 7700 peut traiter une gamme de tailles et de formes de substrat, des petites plaquettes aux grands substrats. L'unité supporte également plusieurs méthodes de chargement et de déchargement de substrat. L'add-on glovebox avec les caractéristiques de base assure une excellente répétabilité du processus et la sécurité. La compatibilité de la machine avec le kit AMAT PVD process management (AMPM) offre un niveau de contrôle plus élevé pour le développement et la production de processus à faible coût. Il s'intègre avec des commandes logicielles puissantes pour permettre la planification embarquée et le suivi des tâches, l'enregistrement et le signalement des processus, et le soutien diagnostique à distance. L'outil est conçu pour une faible charge globale de fonctionnement et de maintenance. Il utilise une compensation intégrée des technologies de modules de processus établies et reconnues pour assurer une haute performance reproductible. Ce réacteur a une alimentation modulée en largeur d'impulsion pour une réponse rapide et une stabilisation rapide. Il permet également un contrôle précis de la température. Il dispose d'un large ensemble d'opérations de polarisation et de gravure, permettant de configurer plusieurs couches et étapes de processus. L'actif supporte également de nombreux capteurs physiques et chimiques pour la surveillance des processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 7700 est un outil idéal pour les applications avancées de semi-conducteurs et de nanotechnologies telles que la fabrication de dispositifs MEMS, les dépôts de matériaux photoniques et optoélectroniques, les écrans MEMS, les capteurs et l'ultra-miniaturisation. Il s'agit d'une solution fiable pour un large éventail de besoins de production de films minces dans une gamme d'industries.