Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7710 #9095868 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 Le réacteur est un système TFE (Three-Field Etch) de nouvelle génération conçu pour la gravure de structures avancées de dispositifs semi-conducteurs avec une grande précision et une excellente uniformité. Ce système de pointe est capable de graver à travers des couches d'oxyde de champ, des couches de résistance, des empilements de films et d'autres structures de dispositifs. AMAT 7710 utilise un procédé TFE avancé pour obtenir une uniformité quasi parfaite dans une variété de structures d'appareils. Au cœur des capacités d'APPLIED MATERIALS 7710 se trouve son processus TFE avancé. TFE est conçu pour fournir des structures de dispositifs avec une précision dimensionnelle plus élevée et une uniformité supérieure par rapport aux procédés traditionnels de gravure à sec. 7710 utilise une conception innovante de chambre de gravure à trois champs qui utilise deux gaz sources, et un troisième champ de « biais » pour créer un environnement de gravure unique. Les gaz de source et de polarisation sont activement contrôlés afin d'obtenir les conditions de gravure optimales pour la structure particulière du dispositif. Cette technologie de pointe permet d'assurer des profondeurs de gravure uniformes ainsi que des tailles de caractéristiques serrées. AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 présente une nouvelle étape de pré-conditionnement. Les plaquettes de silicium sont exposées à un procédé spécialisé de gravure sèche à faible endommagement, pour assurer la préparation des couches diélectriques et autres composants délicats avant gravure. Cette étape de pré-conditionnement permet un processus de gravure contrôlé qui prépare de manière optimale la structure du dispositif avant le début du processus de gravure. En plus de son étape avancée de pré-conditionnement, AMAT 7710 utilise également une gamme d'assemblages de plénums gazeux et de systèmes de vide complexes pour gérer l'environnement de gravure. Chaque type de structure de dispositif nécessite des conditions de gravure différentes, car ces MATÉRIAUX APPLIQUÉS 7710 sont capables de régler automatiquement les paramètres du processus de gravure pour fournir les meilleures performances de gravure. 7710 est un choix idéal pour tout client cherchant à optimiser le processus de gravure de structures avancées de dispositifs semi-conducteurs. Avec son procédé TFE avancé, AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 offre une excellente uniformité et des tailles de caractéristiques serrées pour des performances et des rendements améliorés. Outre son étape de préemballage, ses assemblages complexes en plénum gazeux et ses systèmes à vide géré, l'AMAT 7710 est un choix de pointe pour les structures des dispositifs de gravure.