Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7710A #9095861 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A est un réacteur avancé à haute performance de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de matériaux de couche atomique tels que des couches minces, des diélectriques, des oxydes et des nitrures. Cet outil est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la croissance des matériaux à l'échelle micro et nanométrique. Le réacteur AMAT 7710A est un système CVD horizontal à deux chambres conçu pour le montage automatisé et le transfert de plaquettes entre chambres sans vide de rupture. Il dispose d'une chambre interne en acier inoxydable robuste avec doublure de carbone pyrolytique, électrodes tubulaires, et un tube de chauffage en céramique pour fournir un processus CVD haute pureté, ultra-basse température et haute température. Le Wafer Plate-in-Range permet d'utiliser trois diamètres de plaquettes allant de 30 mm à 125 mm, ainsi que des plaquettes épaisses jusqu'à 1,2 mm et des substrats de couches minces jusqu'à 0,300 mm. APPLIED MATERIALS 7710A dispose d'un puissant régulateur de débit massique qui permet un contrôle précis des gaz de procédé de 10cm à 1800ccm et des fenêtres à quartz à double cristal pour une visualisation et une surveillance parfaites pendant le processus de dépôt. Un périmètre de chambre chauffée assure un contrôle uniforme de la température à travers la plaquette, ce qui entraîne un processus de faible défectivité et de précision. Ce réacteur intègre également une commutation de gaz à base de température qui offre un contrôle de contraintes supérieur grâce à une meilleure gestion thermique des plaquettes pour des applications en couches minces. 7710A est un système CVD entièrement automatisé avec logiciel de recette programmable. Ce réacteur intègre une plage de température aussi basse que 200℃ et jusqu'à 900℃ et est capable de fonctionner à haute pression jusqu'à 10Torr. Il fournit une excellente uniformité thermique, vitesse de dépôt, et cristallinité épitaxiale. Les caractéristiques spécifiques au modèle augmentent la stabilité et la répétabilité du traitement et réduisent le coût de propriété, tout en maintenant un contrôle strict du processus. L'écran de refroidissement liquide interne protège l'utilisateur du rayonnement et du bruit pendant le processus de dépôt. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A est adapté à la croissance fiable de matériaux de haute qualité sur une grande variété de matériaux de substrat utilisant la technologie CVD. Cet outil offrira un contrôle précis du processus, une excellente défectivité, un débit accru et des rendements élevés. En utilisant la méthode CVD, ce réacteur peut être utilisé pour créer des matériaux pour diverses applications, telles que la fabrication de dispositifs optoélectroniques, magnétiques, d'affichage et de mémoire.