Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7800 #79682 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 est un réacteur industriel utilisé pour créer des semi-conducteurs et d'autres circuits intégrés complexes. Il permet aux utilisateurs de prendre un matériau et de le manipuler au niveau atomique pour créer divers composants de circuits intégrés. AMAT 7800 utilise un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour déposer des couches de matériau sur le substrat. Un gaz vecteur, tel que l'hydrogène, est introduit dans le réacteur avec des réactifs tels que le silane, l'ammoniac et l'acétylène. Ceci crée une vapeur qui est ensuite déposée sur le substrat en couches. La vitesse et l'épaisseur de dépôt de la couche sont contrôlées en ajustant la température, la pression et le débit de gaz porteur. Le contrôleur des matériaux appliqués 7800 surveille les températures et pressions en temps réel du processus et permet aux utilisateurs de surveiller diverses données. La spectroscopie in situ donne aux utilisateurs un aperçu supplémentaire de la croissance des vapeurs et contribue à assurer un dépôt optimal. 7800 intègre également le traitement plasma pour créer une variété de différentes formes de couches, telles que le nitrure de silicium ou l'oxyde de silicium. Le plasma est créé par l'application de la puissance RF sur le substrat, qui décompose la vapeur et crée les couches appropriées. De plus, la technologie permet le dopage de matériaux de substrat avec des éléments tels que le phosphore ou l'arsenic. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 est un réacteur extrêmement avancé qui, grâce à sa grande précision, permet la fabrication de composants complexes pour circuits intégrés. Son utilisation de CVD, de traitement plasma et de spectroscopie in situ permet aux utilisateurs de créer des couches de haute qualité avec précision et uniformité. C'est un système très fiable qui garantit des résultats cohérents quel que soit le matériau ou l'application du substrat.