Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7800 #9181899 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 est un outil de pointe et performant pour la fabrication de circuits intégrés ultrapériphériques et ultrapériphériques. Il s'agit d'un réacteur PECVD à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour déposer des films ultra-minces avec une excellente homogénéité à des températures comprises entre 300 ° C et 550 ° C Le réacteur est équipé de deux étages de pompage différentiel pour assurer une homogénéité de dépôt supérieure sur l'ensemble de la plaquette. Son système de contrôle automatisé est intuitif et facile à utiliser, permettant une accélération rapide du processus et un faible temps d'optimisation des processus. AMAT 7800 est capable de déposer des films minces avec une homogénéité exceptionnelle, y compris des oxydes de grille ultra-minces, des matériaux de barrière à haute température, des diélectriques constants diélectriques élevés, des contacts métalliques et des interconnexions métalliques. Les oxydes d'ultrathrine de grille sont particulièrement importants dans les transistors, les diélectriques de haut k sont essentiels pour réduire davantage à des noeuds plus fins, et les contacts METAL et les interconnexions sont nécessaires pour la métallisation des interconnexions. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le 7800 est capable de déposer une grande variété de matériaux, notamment le dioxyde de silicium, l'oxyde d'hafnium, l'oxyde de tantale, le nitrure de bore, le nitrure de titane, le nitrure d'hafnium et d'autres matériaux diélectriques. 7800 est idéal pour la production en grand volume de dispositifs et de circuits ultra-minces et ultra-larges. Il est thermiquement stable et capable de produire des dépôts constants de haute qualité sur de grandes plaquettes. Avec ses chambres PECVD hautes performances, il permet un contrôle précis de la température du processus de dépôt, permettant une épaisseur de film précise et un dépôt uniforme. L'interface intuitive et facile à utiliser permet d'ajuster facilement le processus de dépôt pour différents matériaux sur différentes tailles de plaquettes. Le système de contrôle automatisé permet une montée en puissance rapide des processus et un faible temps d'optimisation des processus. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 est un réacteur CVD PECVD avancé qui est bien adapté à la production à haut volume de dispositifs et de circuits ultra-minces et ultra-larges. Il est capable d'une excellente homogénéité de dépôt et d'un contrôle précis de la température du processus de dépôt, permettant des niveaux de qualité et de production les plus élevés en microfabrication.