Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7810 RP #9804 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 RP (Rapid Processing) est un réacteur innovant de type batch utilisé pour le traitement rapide des plaquettes semi-conductrices. Il est conçu pour la fabrication de plaquettes frontales et le développement de processus de fabrication. L'équipement dispose d'un processus semi-automatique à charge continue de cassette à cassette pouvant accueillir jusqu'à 240 plaquettes de 150 mm ou 150 plaquettes de 200 mm par lot. Les composants de processus distincts, tels que chargeur/déchargeur par lots, four, volets et refroidisseurs, sont modulables et peuvent être combinés pour répondre aux exigences précises de l'utilisateur en matière de processus. Le système est équipé d'une gamme complète d'outils de traitement de plaquettes AMAT comprenant des systèmes avancés de nettoyage des plaquettes et une unité de centrage de plaquettes à haute vitesse qui réduit les temps de chargement/déchargement des plaquettes. Il dispose également d'une machine de mesure de particules in situ qui permet une analyse rapide des nettoyants des plaquettes. AMAT 7810 RP est conçu pour un contrôle précis de la température et du processus. L'outil utilise des fonctions de contrôle PID pour fournir un profil de température uniforme le long de la zone du four et un contrôle précis de l'addition de réactif. Il dispose également d'un contrôleur de chauffage rapide qui réduit les temps de transition des plaquettes et permet d'augmenter le débit. L'actif de contrôle avancé fournit des paramètres de processus (température et concentrations de réactifs) qui sont automatiquement sauvegardés et peuvent être utilisés pour la répétabilité et le développement du processus. Le modèle fournit également un suivi complet des données en temps réel, permettant aux ingénieurs de processus de surveiller et de réguler le processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 7810 RP est un outil de traitement avancé qui est essentiel pour le traitement efficace et à haut rendement des semi-conducteurs. Avec son interface facile à utiliser et son contrôle précis, il est idéal pour le développement de processus de haut volume et de haute qualité.