Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7810 #293827237 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 Le réacteur est un équipement de dépôt performant conçu pour déposer des couches minces de haute qualité sur de grands substrats de silicium. Il utilise le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) pour permettre aux fabricants de déposer des couches de SiO2, de SiCN et d'autres matériaux diélectriques sur des surfaces de silicium, de quartz ou de métal. AMAT 7810 peut atteindre des largeurs de ligne de 10nm avec une précision proche du niveau atomique. Le système est suffisamment souple pour déposer de grandes quantités de matière à des cadences élevées ou pour déposer des couches très minces avec une homogénéité totale. MATÉRIAUX APPLIQUÉS 7810 Le réacteur est configuré comme une chambre de traitement intégrée et contient une chambre de processus de 120 centimètres cubes avec trois modules sources configurables indépendamment. Les modules sources fournissent des plasmas de gaz réactifs pour induire et contrôler le dépôt. Cette unité de dépôt peut également être utilisée pour pulvériser, développer et recuit. La chambre est divisée en deux compartiments de métrologie distincts, chacun avec un ensemble indépendant de paramètres de contrôle. 7810 dispose également d'un spectromètre de masse en ligne intégré, permettant un contrôle plus précis de la composition des gaz réactifs. AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 Le réacteur utilise un radiateur thermique pour dissiper efficacement l'énergie thermique, et un mandrin électrostatique à plaques parallèles avec des plaques de déflexion RF pour maintenir les substrats planarisés. La machine est enfermée dans un cadre en acier inoxydable, assurant une opération de vide lisse et cohérente. Réacteur AMAT 7810 a une densité de puissance élevée, permettant ainsi le dépôt et la gravure de grands substrats à haute température et avec des temps de cycle plus courts. APPLIED MATERIALS 7810 Reactor offre des performances améliorées avec un contrôleur de processus optimisé, permettant à l'utilisateur de configurer plusieurs recettes et de traiter des séquences rapidement. L'outil est capable de contrôler les paramètres du processus avec une précision de niveau micron, et peut atteindre un débit incroyablement élevé avec une intervention minimale de l'opérateur. Dans l'ensemble, 7810 Reactor est un outil de dépôt extrêmement puissant, polyvalent, peu entretenu et économique pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Sa précision et ses capacités le rendent parfaitement adapté à un large éventail d'applications, y compris les écrans plats, les dispositifs de mémoire et les composants optoélectroniques.