Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 7810 #9077262 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 est un réacteur CVD avancé conçu pour des capacités de traitement dans un large éventail d'applications. L'équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma est un outil de procédé à haut rendement et à haute performance pour le dépôt de couches très minces pour les technologies de pointe des dispositifs. Le réacteur AMAT 7810 est conçu pour des coûts de consommation faibles, offrant un faible rapport coût-performance. Le système peut être configuré comme une seule plaquette ou un processus par lots, ainsi qu'un large éventail de systèmes de métrologie in situ. Il est équipé à la fois d'un mandrin électrostatique monobloc, ou d'une chambre multiprocess pour permettre des procédés de pointe par lots et monobloc. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 7810 est également doté d'une technologie de pointe de sources de plasma, y compris la source de CVD améliorée par plasma (PECVD). Cette technologie permet de contrôler la température, la concentration d'ions, le flux d'ions et le profil de flux, entre autres paramètres de dépôt. 7810 porte-substrat peut contenir jusqu'à six plaquettes de silicium de 12 pouces avec une seule charge et comprend un dispositif de rotation des plaquettes et un orifice central de dépression. Le dispositif de rotation de la plaquette est relié à un contrôleur intégré, qui assure précision et précision de position, permettant un positionnement précis de la plaquette lors du dépôt. Le réacteur est également intégré à une unité de régulation de la température de la plaquette en boucle fermée pour maintenir la température constante de la plaquette pendant les processus. Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 dispose d'une machine de surveillance in situ avancée qui peut assurer une surveillance en temps réel du processus de dépôt. La fonction de refroidissement intégrée et le moniteur in-situ permettent un temps de cycle rapide et l'optimisation des processus. Les fonctions avancées de surveillance et de refroidissement d'AMAT 7810 permettent également un contrôle précis des taux de dépôt et de l'épaisseur des couches, ce qui permet d'obtenir un rendement plus élevé et un meilleur résultat du procédé. En plus de ses fonctions d'outils avancées, APPLIED MATERIALS 7810 fournit également des systèmes de contrôle de sécurité et de maintenance avancés. Un outil de contrôle de la pression du gaz assure la sécurité et la précision, et un moniteur de pression in situ en boucle fermée assure un fonctionnement ininterrompu et efficace. 7810 a également une conception modulaire pour un entretien facile et des mises à niveau. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 est un réacteur CVD avancé conçu pour des capacités de traitement supérieures pour un large éventail d'applications. Grâce à ses systèmes de surveillance et de refroidissement avancés, à ses faibles charges consommables, à son contrôle précis des procédés et à son faible rapport coût-performance, l'AMAT 7810 est un excellent choix pour la fabrication d'appareils et de technologies de pointe.