Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 9240-03211 #293635674 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS 9240-03211 est un outil de dépôt CVD haute performance conçu pour des applications de haute précision. Cet équipement est capable de produire des films exceptionnellement résistants et uniformes tout en contrôlant la microstructure et la morphologie des films. Le réacteur est équipé d'une chambre à vide, d'un système robuste de distribution de gaz et d'un élément chauffant alimenté. Cette combinaison d'éléments lui permet de fonctionner à haute pression et à haute température, en fournissant des films uniformes avec des propriétés répétables sur de grandes surfaces. La chambre du réacteur AMAT 9240-03211 est construite en acier inoxydable recouvert de nickel et comprend un plateau et une porte tournante. Le plateau est le retour de la chambre où sont montés les substrats et les cibles. La porte tournante à l'entrée permet un accès aisé des substrats à l'intérieur et à la sortie de la chambre de dépôt. L'intérieur de la chambre est conçu avec une configuration de profil bas pour permettre une uniformité haute résolution et des résultats reproductibles. Le réacteur est équipé d'une unité de refoulement de gaz qui assure un contrôle précis du débit de gaz, du mélange et de la cadence afin d'assurer un dépôt de film uniforme sur l'ensemble du substrat. Cette machine est composée d'une pompe à vide Edwards E2M18, d'une série de régulateurs de débit massique (MFC) et d'un collecteur équipé de vannes pour acheminer le gaz vers diverses parties de la chambre de dépôt. En contrôlant le débit et la composition des gaz, le réacteur est capable de produire des films de qualité avec uniformité et répétabilité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 9240-03211 comprend également une chambre à atmosphère contrôlée qui est équipée d'un élément chauffant réglé par une unité centrale de traitement (CPU). Cet élément chauffant est capable de produire des températures jusqu'à 1000 ° C et des pressions jusqu'à 200 Torr. L'environnement haute température et haute pression créé par l'élément chauffant favorise un dépôt uniforme des films sur l'ensemble du substrat. Le réacteur 9240-03211 est un outil fiable pour produire des films de haute qualité, et ses caractéristiques le rendent idéal pour une large gamme d'applications CVD de haute précision. Avec son contrôle de la température et de la pression, son outil précis de distribution de gaz et sa conception robuste des chambres, cet atout est capable de produire des films uniformes avec des résultats reproductibles pour répondre aux besoins des applications exigeantes.