Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS AE Minos chamber for Centura DPS II #293650481 à vendre en France

AMAT AE Minos DPS II Chamber est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance, conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'AE Minos DPS II permet un traitement robuste et hautement reproductible des matériaux à couches minces utilisés dans les dispositifs semi-conducteurs. La chambre fournit un contrôle avancé de l'uniformité, des vitesses de dépôt rapides et un débit élevé. L'AE Minos DPS II dispose d'une chambre de procédé plate et carrée pour uniformiser et améliorer la répétabilité des plaquettes. Cette chambre est équipée d'un contrôle d'uniformité avancé en trois points, permettant aux opérateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres pour améliorer l'uniformité du dépôt en couches minces. La chambre est également équipée d'un système plasma haute performance, qui offre une uniformité améliorée et stable. Ce système comprend également un contrôle des biais à 3 zones pour aider à réduire l'érosion ionique réactive. L'AE Minos DPS II intègre une architecture de dépôt flexible, permettant aux opérateurs d'augmenter ou de réduire le débit et le taux de dépôt de la chambre. La chambre offre une flexibilité de procédé avancée et une capacité à déposer une large gamme de matériaux à couches minces avec des procédés de dépôt variés. De plus, la chambre peut traiter divers substrats, dont le silicium, l'arséniure de gallium, le phosphure d'indium et d'autres composés et oxydes. L'AE Minos DPS II est équipé d'un certain nombre de systèmes avancés de contrôle et de surveillance des processus, y compris la détection des bords, le contrôle de l'uniformité, le contrôle automatique de la température et le verrouillage de la charge. L'AE Minos DPS II dispose également d'un système avancé de refroidissement et de chauffage pour contrôler les températures dans la chambre pendant le traitement, qui assure un dépôt uniforme et cohérent. L'AE Minos DPS II est conçu pour une productivité maximale et pour faciliter le dépôt rapide et précis des couches minces. Avec son architecture flexible, son contrôle avancé des processus et son débit élevé, l'AE Minos DPS II permet un traitement efficace et performant d'une large gamme de films et substrats semi-conducteurs.