Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 1600A #293620423 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 1600A est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur renforcé par plasma conçu pour la synthèse de matériaux à couches minces. Le réacteur est équipé de plusieurs caractéristiques qui en font un choix idéal pour les procédés de dépôt en couches minces dans les opérations de recherche et développement, de production et de prototypage. AKT 1600A dispose d'un équipement de génération de plasma qui utilise la puissance RF et micro-ondes pour ioniser le gaz plasmatique, permettant une meilleure uniformité dans la gravure du plasma. Ce système fournit un moyen efficace de configurer les systèmes de contrôle de la puissance RF et du gaz du réacteur, tout en optimisant les paramètres plasmatiques. Le réacteur offre également un excellent contrôle de la température grâce à une unité de refroidissement haute performance, permettant un réglage précis des températures du procédé. Le réacteur dispose également d'une machine logicielle qui permet aux utilisateurs de programmer rapidement et facilement les paramètres de fonctionnement, y compris la pression, la température et le niveau de puissance RF. Cet outil offre un suivi en temps réel des paramètres critiques, ainsi que des capacités d'enregistrement des données qui permettent le suivi et l'optimisation des processus. AMAT 1600A se compose d'une chambre à vide, une source de plasma de pression basse et un contrôleur. La chambre à vide offre un environnement inerte pour le traitement des matériaux et est équipée d'un revêtement en titane anodisé pour une plus grande uniformité. La source de plasma basse pression utilise l'énergie hyperfréquence pour générer un plasma très énergétique qui assure une uniformité dans le dépôt de couches minces. Le contrôleur permet un contrôle précis des paramètres du processus, permettant un fonctionnement dans des plages prédéterminées pour une efficacité et des résultats optimaux. 1600A est un excellent choix pour les utilisateurs nécessitant des capacités de dépôt en couches minces améliorées. Avec sa combinaison de puissance et de précision, ce réacteur est idéal pour le traitement d'une gamme de matériaux et de substrats. De plus, sa conception polyvalente et son fonctionnement intuitif en font un excellent choix pour les chercheurs, les développeurs et les installations de production.