Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 3500 SC PECVD #9011154 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 SC PECVD est un réacteur de nouvelle génération conçu pour produire des couches très minces de matériaux diélectriques et autres. Ce réacteur utilise un procédé appelé Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) pour créer un film de haute qualité et peu coûteux sur des substrats tels que le verre, le plastique et le métal. Le réacteur est équipé d'une chambre à plasma basse pression et est divisé en quatre chambres distinctes pour les réactions sous vide et chimiques. Il contient également des sources de dépôt de phosphore et d'azote, permettant aux utilisateurs de déposer des films tels que de l'oxyde de silicium. La chambre à plasma est équipée d'une source Freon RF, permettant une température de dépôt basse pour assurer d'excellentes propriétés de film et la compatibilité du substrat. Le volume total de la chambre réduit également les vides dans le film, ce qui signifie que même lorsque des couches minces sont déposées, le film peut fournir d'excellentes propriétés électriques pour une performance optimale. Le réacteur est doté d'un équipement innovant, intégré et entièrement contrôlé, permettant aux utilisateurs de personnaliser les précurseurs de film pour diverses applications. Ce système est également conçu pour maximiser l'utilisation du gaz et réduire les coûts de traitement. En outre, le réacteur comprend une séquence de nettoyage automatisée pour éliminer les matières organiques, fournissant des chambres de processus propres et sèches pour des opérations répétables avec des films uniformes. AKT 3500 SC PECVD est capable de produire des films minces d'une épaisseur minimale de 0,2 micron. Le réacteur est également équipé d'une unité d'injection de gaz réactif qui permet un contrôle précis des paramètres de dépôt, y compris la densité optique et la composition du film. Cette machine maximise la qualité du film et améliore l'uniformité du film sur tout le substrat. Dans l'ensemble, AMAT 3500 SC PECVD est un réacteur de production avancée qui est conçu pour créer des dépôts de couches minces de haute qualité avec une uniformité, une épaisseur et des propriétés électriques améliorées. Ce réacteur utilise des technologies de pointe pour réduire les émissions et les coûts, ce qui permet d'accroître les capacités de production. Grâce à ses systèmes automatisés et à son contrôle précis des sources, le réacteur offre une solution fiable, efficace et économique pour les procédés de dépôt en couches minces.