Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 / 5500 #293661852 à vendre en France

Le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température adapté à la production commerciale de semi-conducteurs, d'optoélectroniques et d'autres composants électroniques. Ce réacteur est conçu pour déposer un large éventail de matériaux pelliculaires, tels que le carbone diamant, le nitrure de silicium et le carbure de silicium, sur des substrats tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le saphir. Le réacteur AKT 4300/5500 utilise une conception à paroi chaude, avec chauffage par induction radiofréquence (RF) et contrôle numérique de la température pour créer les températures de processus souhaitées. Le réacteur AMAT 4300/5500 peut atteindre des températures allant jusqu'à 1 250 ° C, ce qui est nécessaire pour certains types de procédés de dépôt de films. Cette capacité est activée par un système de contrôle des gaz en boucle fermée et un plasma RF couplé inductivement qui délivrent des températures stables et uniformes dans toute la chambre de réaction. La grande chambre de réaction cylindrique du réacteur 4300/5500 peut traiter des substrats jusqu'à 350 mm de diamètre, permettant la fabrication de composants à grande échelle. Le système avancé de pompage rotor/stator offre une vitesse de pompage maximale de 8 000 l/min, et peut être utilisé en combinaison avec une technique de pression partielle d'hydrogène ou d'argon pour créer l'environnement chimique précis nécessaire à certains types de dépôt de film. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 4300/5500 dispose également d'une paroi froide à deux portes en option pour une flexibilité de traitement supplémentaire. Cette fonctionnalité permet aux clients de basculer entre processus thermiques et non thermiques sans perte de vide, offrant une grande flexibilité dans le chargement et le traitement des échantillons. De plus, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500 offre un contrôle numérique complet, ce qui permet une programmation et une optimisation faciles des recettes de dépôt. Ce réacteur est équipé d'un langage Easy-LANG pour la mise en place, la surveillance et la vérification de toutes les étapes du processus, ainsi que pour la duplication des opérations de dépôt complexes. Le réacteur AKT 4300/5500 peut être utilisé pour diverses applications de recherche et de production, y compris le dépôt de couches semi-conductrices et organiques, la précipitation de diélectriques et de métaux, de nanocristaux et de nanofils. Ce réacteur offre des performances et une fiabilité supérieures, avec une source RF haute tension et des fonctions avancées de surveillance des procédés qui permettent aux chercheurs d'obtenir des résultats exceptionnels. Le réacteur AMAT 4300/5500 est une solution idéale pour des applications commerciales nécessitant des procédés CVD à haute température.