Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS AKT-5500 #293755345 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS AKT-5500
ID: 293755345
CVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS AKT-5500 est un réacteur de pointe communément appelé équipement de gravure utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Développé par AMAT, l'un des principaux fournisseurs d'équipements, de services et de logiciels pour la production de puces semi-conductrices, AMAT AKT-5500 est conçu pour fournir des processus de gravure précis et fiables pour les dispositifs semi-conducteurs avancés. La gravure est un processus critique dans la fabrication de semi-conducteurs qui consiste à retirer sélectivement le matériau de la surface d'une plaquette pour créer des motifs et des structures qui définissent les fonctionnalités de la puce finale. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur 5500 est spécialement conçu pour fournir des capacités de gravure de haute performance tout en assurant un débit élevé, l'uniformité des processus et la répétabilité. APPLIED MATERIALS AKT-5500 est équipé de fonctionnalités technologiques avancées qui permettent un contrôle précis des paramètres du processus de gravure, tels que la vitesse de gravure, la sélectivité, l'uniformité et le contrôle du profil. Le système utilise une combinaison de techniques de gravure à base de plasma et de gravure chimique pour obtenir les profils de gravure désirés avec une grande fidélité et précision. Un des composants clés du réacteur AMAT 5500 est la source de plasma, qui génère un plasma hautement réactif qui interagit avec la surface de la plaquette pour faciliter l'élimination des matières. Le réacteur est équipé d'une unité de refoulement de gaz sophistiquée qui permet un contrôle précis de la composition et du débit des gaz de trempe utilisés dans le procédé. Cela permet d'affiner la chimie de gravure pour obtenir des résultats optimaux. AKT-5500 est conçu pour traiter un large éventail de matériaux couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium et divers métaux. Le réacteur est compatible avec les processus avant et arrière, ce qui en fait un outil polyvalent pour graver une variété de structures et de motifs sur les plaquettes semi-conductrices. En termes de débit, AMAT/APPLIED MATERIALS 5500 est optimisé pour des environnements de fabrication à haut volume, avec des fonctionnalités telles que des configurations multi-chambres et des capacités de manutention rapide des plaquettes. La machine est conçue pour minimiser les temps de cycle des plaquettes et maximiser la productivité, assurant une utilisation efficace des ressources de fabrication. Pour assurer la répétabilité et la fiabilité des processus, le réacteur 5500 est équipé de systèmes avancés de surveillance et de contrôle des processus qui surveillent en permanence les paramètres clés des processus et procèdent à des ajustements en temps réel pour maintenir la stabilité des processus. Cela aide à minimiser la variabilité des résultats de gravure et assure des performances cohérentes de l'appareil sur les plaquettes et les lots. Dans l'ensemble, le réacteur AMAT/APPLIED MATERIALS AKT-5500 est un outil de pointe pour les applications de gravure de semi-conducteurs, offrant des capacités de processus avancées, un débit élevé et une fiabilité de processus. Son contrôle précis des paramètres de gravure, sa compatibilité avec un large éventail de matériaux et ses systèmes de surveillance et de contrôle avancés en font un atout précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à produire des dispositifs de haute qualité et performants.
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