Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ALD Chambers for Endura CL #293663271 à vendre en France

Le réacteur AMAT Endura CL ALD est conçu pour fournir un dépôt de couche atomique (ALD) de la plus haute qualité et la plus précise pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Cette chambre ALD est conçue pour être aussi efficace et rentable que possible, et intègre de nombreuses fonctionnalités avancées qui en font le choix idéal pour créer des couches fiables et cohérentes. Le réacteur Endura CL a une conception améliorée qui fournit un environnement supérieur pour les dépôts. Sa structure intérieure dorée et de faible distance à la pompe augmente le débit de dépôt et aide à réduire les sous-produits de réaction indésirables. Cette chambre est équipée d'un système de contrôle avancé basé sur le Web qui permet une surveillance facile du temps de processus, de la pression et de la température. En outre, sa conception de montage de flux est entièrement compatible avec l'hélium, l'azote et les systèmes à hydrogène pur, garantissant qu'il peut être utilisé par divers procédés sans avoir besoin d'infrastructures supplémentaires. La chambre dispose également d'une grande fenêtre vue panneau et de nombreux ports pour la gestion du gaz et du refroidissement. Le réacteur Endura CL est optimisé pour un dépôt uniforme de précurseurs, ce qui crée des interfaces uniformes avec un facteur atteignable plus élevé pour la performance du dispositif. Il comporte également une voie précurseur propre/sèche, ainsi que des étapes de support et de dépôt de plaquettes à changement rapide. Cette chambre est conçue pour fournir des films ALD uniformes avec une excellente couverture d'étape, même sur les substrats les plus difficiles. En tant que machine industrielle, le réacteur Endura CL est équipé de chambres de faux plancher pour le transfert de substrat et d'une chambre d'isolement. Ceux-ci fournissent un environnement propre et sans interférence pour la chambre et aident à prévenir la contamination des substrats. En outre, cette machine dispose également d'un chauffage par substrat en creux qui permet un contrôle précis des températures du processus et contribue ainsi à maintenir la précision du processus ALD. AMAT/APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL est l'un des systèmes ALD les plus avancés sur le marché. En tant que tel, il fournit la plus haute qualité et la précision lors de la création de différentes couches pour l'utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Grâce à sa conception avancée et à ses fonctionnalités améliorées, cette chambre ALD est optimisée pour un dépôt de film ALD uniforme et cohérent.