Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS AMC 7811 #9293632 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7811 est un réacteur à plasma à haute performance conçu pour des applications de gravure ionique réactive (RIE). C'est un équipement entièrement intégré qui offre précision et précision à un large éventail de processus industriels. Avec l'aide de ce réacteur, les utilisateurs peuvent effectuer les opérations de gravure de la manière la plus simple, la plus rapide et la plus efficace. Le cœur d'AMAT AMC est une alimentation rf puissante et précise. Il est conçu avec la dernière technologie pour garantir la plus haute qualité de processus et l'uniformité. Il fournit également un système complet d'enregistrement des données pour la saisie des indicateurs de processus tels que les températures, les pressions dans les chambres et les niveaux des plaquettes. Le caractère unique de l'alimentation comprend un mode à fréquence variable qui le rend adapté à diverses applications RIE. En outre, le réacteur AMAT AMC 7811 est équipé d'une fonction d'arrêt spécialisée. Cette fonction permet à l'opérateur d'arrêter instantanément le processus de gravure en cas de situation d'urgence. Il dispose également d'un temporisateur intégré, qui modifie automatiquement les paramètres du processus selon une séquence d'étapes prédéfinie. Le réacteur APPLIED MATERIALS AMC-7811 dispose d'un système de refroidissement avancé conçu pour assurer l'efficacité du processus de gravure. De plus, il comporte une grande chambre de traitement qui peut facilement accueillir des substrats plus importants. La chambre est également conçue pour assurer un excellent fonctionnement et contrôle. AMAT/APPLIED MATERIALS AMC-7811 est également équipé d'une variété d'accessoires de pointe tels que des moniteurs de gaz, des porte-échantillons, des systèmes d'épuration, etc. Il dispose également de plusieurs progiciels conviviaux qui permettent aux utilisateurs d'établir, de contrôler et de surveiller leur processus de manière plus efficace. Globalement, AMC 7811 est une solution de gravure plasma avancée et fiable pour les applications industrielles. Il est conçu pour la plus haute précision et fournit d'excellentes performances dans les processus de gravure. Les caractéristiques avancées du réacteur en font même un système hautement souhaitable pour l'automatisation des procédés.