Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS AMC 7821 #9390648 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS AMC 7821 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) destiné à des applications de dépôt en couches minces. Cet équipement est conçu pour le revêtement de substrats avec des couches minces de matériaux diélectriques et non diélectriques, sur la base de systèmes intégrés de développement de processus et de contrôle de processus. AMAT AMC 7821 offre un meilleur contrôle du traitement des techniques traditionnelles de dépôt thermique et une gamme accrue de procédés. Le système est composé d'un mandrin électrostatique, de deux sources RF, d'une turbo-pompe intégrée et d'un ensemble de brides sous vide. Le mandrin électrostatique est utilisé pour maintenir l'échantillon traité en place, et permet un contrôle précis de la zone à traiter et de la forme du substrat. Les deux sources RF sont utilisées pour produire et contrôler l'énergie pour le processus de dépôt, ce qui permet des conditions personnalisées en fonction des besoins du processus. La turbo-pompe intégrée est utilisée pour obtenir un environnement à basse pression lors du dépôt de couches minces, et permet un cycle de pompage plus rapide. Le FM-7821 est également équipé d'un ensemble complet d'automatisation défini par l'utilisateur, comprenant une variété de paramètres de température et de régulation. Cela permet des conditions de traitement précises et répétables, et minimise le risque d'erreurs au cours du processus de dépôt. Le boítier d'automatisation défini par l'utilisateur comprend également le contrôle du gaz de procédé, tel que le mélange de gaz, le débit et la pression partielle des gaz à l'intérieur de la chambre. La chambre de réaction est construite avec de l'aluminium et de l'acier inoxydable, et utilise une conception optimisée de bocal de cloche pour réduire les chances d'éclair ou d'arc pendant le processus de dépôt. La précision de cette conception permet des cycles de processus plus rapides et une meilleure uniformité et stabilité du procédé, ce qui donne des films minces de meilleure qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS AMC 7821 est conçu pour améliorer la rentabilité et la sécurité environnementale. Il minimise la quantité requise de matériaux et de gaz utilisés pour le processus, ce qui permet de réduire les coûts et d'améliorer la sécurité. L'unité offre également une gamme de capteurs de sécurité pour la surveillance des particules aéroportées et d'autres risques potentiels associés au traitement du plasma. En résumé, AMC 7821 est un réacteur PECVD polyvalent, offrant un dépôt efficace et fiable de couches minces avec une excellente précision et répétabilité pour une variété d'applications. La machine utilise des paquets d'automatisation avancés définis par l'utilisateur pour fournir un contrôle précis des processus, et offre un faible coût et la sécurité environnementale en minimisant la quantité requise de matériaux de processus. C'est un outil idéal pour le dépôt de couches minces de haute précision.