Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS AMS 2100 #9269434 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS AMS 2100 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) largement utilisé, adapté au dépôt de divers matériaux à couches minces. Il permet des dépôts performants et rentables dans un large éventail de conditions de croissance. Le réacteur a une température maximale de 2000 ° C, des niveaux de puissance impressionnants jusqu'à 5000 W et peut traiter jusqu'à 2200 pouces carrés de substrat. Il possède des caractéristiques de sécurité intégrées et peut être actionné manuellement ou programmatiquement. AMAT AMS 2100 est conçu pour assurer un dépôt uniforme sur toute la surface des substrats de grande surface. Il dispose d'une plate-forme de chauffage multi-zones avec des zones variables de 4 à 10 selon les configurations et peut accueillir des substrats jusqu'à 12 pouces de diamètre ou jusqu'à 2200 pouces carrés. Il est livré avec un levage de suscepteur vertical pour la manutention rapide du substrat et peut être fourni de l'azote, de l'argon, du silane, de l'ammoniac et d'autres gaz de procédé pour différentes applications de dépôt. Le réacteur utilise un équipement à vide turbomoléculaire supérieur à deux pompes, avec une pression de base maximale de 3x10-7 Torr lorsqu'une pompe de diffusion est utilisée, offrant un excellent contrôle du procédé et l'uniformité. Il dispose d'une géométrie de pompage zonée et d'une conception unique du flux de gaz afin de minimiser le temps de séjour en phase gazeuse et de conserver l'utilisation du gaz. Le réacteur est également équipé de régulateurs de température avancés et de systèmes de sécurité dédiés pour la température, la pression, la contrainte thermique et la surpression du gaz. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'AMS 2100 est également conçu pour un fonctionnement et un entretien plus sûrs. Il est livré avec des systèmes de sécurité intégrés et des protocoles de sécurité programmés pour assurer un fonctionnement sûr. Le panneau de commande du réacteur peut être utilisé pour le fonctionnement manuel, y compris l'établissement de paramètres de croissance, la surveillance des conditions de processus et l'arrêt du système. Il dispose également d'une unité de contrôle de processus pour le fonctionnement programmatique, permettant une croissance continue et sans surveillance. Il existe une variété d'autres fonctionnalités et options, toutes conçues pour faire du réacteur CVD AMS 2100 une machine polyvalente et fiable pour le dépôt de films avec des propriétés supérieures pour diverses applications.