Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS ASP Chamber for P5000 #293642390 à vendre en France
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AMAT/APPLIED MATERIALS ASP Chamber est un réacteur de pointe, utilisé dans le traitement de matériaux à l'échelle nanométrique. Ce réacteur combine deux technologies principales : gravure à base de plasma et traitement de substrat avancé (ASP). La gravure à base de plasma est utilisée pour nettoyer, traiter la surface et graver les matériaux à l'échelle du nanomètre. La source de plasma pour la gravure est fournie par une source de magnétron bi-fréquence propriétaire qui permet une gravure à haute sélectivité et anisotropie sur une large gamme de matériaux. Cette gravure est également améliorée avec une source de plasma couplée inductivement, un générateur HF distant et une source haute densité. En outre, la capacité de gravure est complétée par les options de chauffage in situ du substrat qui permet un contrôle rapide et uniforme de la température, permettant des vitesses de gravure uniformes et un excellent contrôle. La deuxième composante de l'AMAT ASP Chamber est la technologie de traitement de substrat avancé (ASP). Cette technologie offre une série de capacités uniques, y compris le dépôt chimique et le dépôt par couche atomique (DAL). L'ASP fournit des dépôts chimiques avec un ensemble avancé de gaz de procédé, une plate-forme propriétaire Langmuir-Blodgett, et la spectrométrie de masse intégrée. Ce gaz de procédé permet un contrôle précis de l'épaisseur et de l'uniformité du film aux niveaux de l'échelle nanométrique. Les capacités ALD de APPLIED MATERIALS ASP Chamber sont activées par la source ALD massivement parallèle (MPALS). Cette source fournit la capacité de dépôts très précis, avec un excellent contrôle de l'énergie et du flux pour un dépôt de film uniforme sur une grande zone de substrat. En outre, le processus ALD est également facilité par une rampe de cycle de température intégrée, qui fournit un contrôle précis de la composition, une excellente isolation thermique et une densité de film uniforme. En conclusion, ASP Chamber est un outil puissant pour la fabrication, le traitement et le dépôt afin de répondre aux exigences des applications nanométriques les plus avancées. Ce réacteur permet de contrôler avec précision les paramètres de gravure, ainsi que les dépôts chimiques et atomiques pour des besoins uniques de traitement à l'échelle nanométrique.
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