Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Carina #9240272 à vendre en France

AMAT (MATÉRIAUX APPLIQUÉS) AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Carina est un équipement de dépôt avancé conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Le système utilise des technologies de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour déposer des films sur des substrats de manière précise et délicate. Le réacteur AMAT Carina offre des avantages en termes de débit, d'uniformité et de performance globale, ce qui en fait un choix idéal pour une large gamme d'applications de fabrication. L'unité utilise une chambre de dépôt en deux parties modulaire très efficace, qui permet à la fois aux procédés PVD et CVD de se produire en une seule étape de dépôt. La partie inférieure est appelée chambre de dépôt et contient les sources, les substrats et les matériaux cibles, tandis que la partie supérieure est constituée par la cuve à vide. La chambre de dépôt est équipée de trois sources, dont une chambre de douche ionique, une source de pulvérisation et une source de faisceau d'électrons, qui peuvent être actionnées individuellement par une source d'alimentation. La machine dispose également d'une configuration de source à cellules fermées pour le traitement CVD et de collecteurs de gaz pour la distribution de gaz inerte. La chambre de dépôt est montée ou installée sur une plate-forme élévatrice à air refroidi par vibration, ce qui permet un chargement et un déchargement rapides et faciles des substrats. Il est également équipé d'un chauffe-substrat réglable, qui fournit un contrôle de température réglable pour des résultats précis et de haute qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur Carina dispose également d'un outil sous vide sophistiqué, qui fournit un environnement précis et stable pour le processus de dépôt. Il est conçu pour maintenir un environnement basse pression, et est équipé d'un ensemble de soupapes de sécurité de pression et de capteurs pour surveiller et réguler la pression de la chambre ainsi que la température du substrat pendant le processus. L'actif est également livré avec une variété de contrôleurs et de capteurs, qui facilitent la surveillance et le contrôle en temps réel pendant les dépôts. Il est également conçu avec des diagnostics avancés et des algorithmes de rétroaction, qui aident à garantir la qualité et la cohérence des processus. Dans l'ensemble, Carina est un modèle de dépôt de haute précision qui fournit l'ultime performance et le débit lorsqu'il s'agit de procédés complexes de fabrication de semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques avancées, il est le choix idéal pour les applications de fabrication de semi-conducteurs qui exigent des résultats extrêmement précis et uniformes.