Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI #9384326 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI (Epitaxial Process Integration) L'équipement est un réacteur de traitement sous vide au niveau des plaquettes pour assurer le dépôt épitaxial de couches sur des plaquettes semi-conductrices. Ce réacteur de fabrication de plaquettes est spécifiquement conçu pour augmenter les performances, la fiabilité et le débit des films diélectriques, des films métalliques et des matériaux semi-conducteurs composés (tels que l'arséniure de gallium, l'arséniure de gallium d'aluminium et les composés à base d'indium). Il convient à un large éventail d'industries, y compris la microélectronique, l'optoélectronique, les télécommunications et la bioélectronique. Le système a été conçu pour surmonter les difficultés de maintien de taux de croissance élevés tout en maintenant une répartition uniforme du matériau déposé. Le procédé offre un support pour plusieurs couches de silicium polycristallin et de dioxyde de silicium et permet la croissance de couches ultra-minces et des opérations épitaxiales multi-orientation. Il offre également des options de traitement thermique à haute température, comme le recuit et la canalisation. AMAT Centura 200 EPI utilise une source d'excitation radiofréquence (RF) pour atteindre des taux de croissance de haut débit. L'unité utilise une chambre de chauffage cylindrique monobloc, dans laquelle plusieurs petits générateurs indirects de plasma créent un champ électrique uniforme le long de la direction de la chambre. Le champ électrique uniforme et le couplage RF à haut rendement rendent les matériaux appliqués Centura 200 EPI adaptés aux processus à basse et haute température. La machine est également très efficace en termes de consommation d'énergie et est capable d'atteindre de faibles densités de nucléation, avec une forte sélectivité de dépôt. Grâce à la commande logicielle jointe, il est possible d'obtenir une homogénéité et une stabilité de couche avec une très faible formation de sous-produits. En outre, Centura 200 EPI peut être combiné avec d'autres systèmes de dépôt dans une configuration en grappe pour les substrats à haute densité. L'outil est conçu avec une architecture modulaire qui permet des options d'automatisation, y compris la manipulation de plaquettes à base de robot. Il est coulé dans un boîtier compact et robuste, ce qui le rend adapté à l'intégration dans les flux de travail en salle blanche. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI est alimenté par un actif sous vide robuste et offre un contrôle total sur la température des plaquettes et les paramètres de processus. Dans l'ensemble, le modèle AMAT Centura 200 EPI offre une solution de dépôt épitaxial hautement fiable et adaptée à un large éventail d'applications. Sa consommation énergétique efficace et son architecture modulaire en font le choix idéal pour les fabricants d'appareils qui exigent des performances fiables et cohérentes.