Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 DPN Gate Stack #293812988 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 DPN Gate Stack
ID: 293812988
Taille de la plaquette: 12"
Plasma system, 12".
AMAT Centura 4.0 DPN Gate Stack est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la fabrication de circuits intégrés avancés. Il s'agit d'un équipement multi-chambres qui permet le dépôt d'une gamme de matériaux, y compris des silicures de pointe, des diélectriques, des contacts métalliques et des oxydes de grille passivés. Le système est équipé d'une unité de gestion du gaz robuste pour contrôler avec précision la pression et le débit. Le réacteur dispose également d'une unité de régulation de température permettant un contrôle précis de la température dans toutes les chambres. Le contrôle de la température est encore amélioré par les capteurs de température à haute résolution répartis sur toute la machine. Le Centura 4.0 est également équipé d'un loadlocks à la pointe de la technologie pour assurer l'uniformité de la chambre de procédé, et dispose d'une faible capacité de substrat pour une meilleure répétabilité et une charge réduite. Dans le procédé de dépôt, une chambre est préchargée avec un support de plaquette puis pompée à une pression déterminée, généralement inférieure à 50 milliTorr. Le substrat de la plaquette est transpercé dans la serrure de charge et la chambre de transfert est fermée pour créer un environnement isolé. Les gaz sont introduits et tous les flux sont détectés et surveillés avec précision. La température et la pression sont alors régulées pour assurer l'uniformité dans toute la chambre, et la chimie du procédé est lancée. Différents matériaux utilisés dans les circuits intégrés peuvent alors être déposés sur le substrat de la plaquette à partir des paramètres de dépôt. Cela comprend : les silicures, les diélectriques, les contacts métalliques et les oxydes passivés de grille, ainsi que les diélectriques à haut k. Ces matériaux sont contrôlés coaxialement pour s'assurer que la température désirée est atteinte, et il est également possible de contrôler les concentrations de certains gaz de procédé, tels que le silane, pour assurer une réaction correcte. Une fois le processus terminé, la plaquette est libérée de la chambre de transfert et chargée dans un transporteur de plaquettes, prête pour l'expédition ou la métrologie finale. Le Centura 4.0 DPN Gate Stack permet aux ingénieurs et aux scientifiques de fabriquer rapidement et efficacement des circuits intégrés avancés, ce qui donne des rendements plus élevés et des performances améliorées.
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