Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9260521 à vendre en France

AMAT Centura 4.0 Radiance est un réacteur à base de plasma conçu pour des applications avancées de semi-conducteurs. Ce réacteur monocouche à basse pression et très souple est conçu pour traiter une variété de matériaux, y compris le silicium, le germanium, l'indium et plusieurs matériaux semi-conducteurs composés. Le réacteur polyvalent Centura 4.0 Radiance permet une variété de séquences de processus, en particulier pour les applications avancées de transistor, IC et mémoire hétérogène. Son plasma est généré à partir d'une source de radiofréquence (RF), avec de l'argon, de l'oxygène ou du gaz azoté fournissant les électrons d'excitation du plasma. Le réacteur permet également l'introduction de dopants lors de la gravure à l'aide d'un système de refoulement en phase gazeuse. Le Centura 4.0 Radiance est conçu avec de grandes chambres et des zones de plaquettes plus larges, permettant la gravure à basse pression et le dépôt de grandes zones de matériau, tout en obtenant une meilleure uniformité par rapport aux processus de gravure de vitesse standard. Cela est dû à sa capacité à utiliser des ions plus rapides, à un rapport ion-gaz neutre plus élevé et à une réduction des collisions ioniques pour une gravure basse pression plus efficace. Le Centura 4.0 Radiance est également équipé de MATÉRIEL APPLIQUÉ breveté Plasma Assisted End-Point Control (PEPC™) système qui optimise la détection du point final pour une gravure précise, permettant une réponse rapide aux changements de processus en temps réel. Sa technologie intégrée et dédiée permet une gravure continue, maximisant le rendement du procédé et augmentant le débit des dispositifs beaucoup plus rapidement qu'avec les systèmes classiques de simulation de gravure par plasma. Le réacteur Centura 4.0 Radiance est conçu pour une production rentable de dispositifs, utilisant ses options de processus généreuses telles que l'alignement des contacts, le nettoyage des mandrins de plaquettes, la gravure à basse pression, le contrôle dynamique de la pression et l'alignement des plaquettes sur les substrats. Il offre plusieurs avantages par rapport aux solutions de gravure standard, notamment une uniformité accrue des plaquettes, des taux de gravure plus élevés et un biais de gravure réduit. Dans l'ensemble, le Centura 4.0 Radiance est un outil puissant et polyvalent pour la fabrication de semi-conducteurs et le traitement avancé des appareils. Avec son design robuste et sa fonctionnalité complète, il est idéal pour les défis de développement d'appareils exigeants d'aujourd'hui.