Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5000 #9373103 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000 est un réacteur de dépôt et de gravure à haute performance conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est idéal pour produire des dispositifs et composants semi-conducteurs avancés haut de gamme, y compris des puces à mémoire, des IC logiques, des cellules solaires et des écrans. Ce réacteur utilise une technologie sous vide ultra-haute qui permet une précision de traitement et une répétabilité supérieures. AMAT Centura 5000 offre des fonctions avancées de contrôle et d'assurance de la qualité qui fournissent des résultats de haut rendement et de haute qualité. Grâce à un contrôle précis de la température, du temps et de la pression, il est capable de produire des résultats cohérents et reproductibles à chaque fois, permettant aux utilisateurs de produire des composants à une échelle très précise et efficace. Avec le système de contrôle AMAT, les MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura 5000 peuvent analyser les résultats des processus en temps réel et peuvent être ajustés pour garantir des résultats optimaux. En plus du contrôle des procédés et de l'assurance qualité, Centura 5000 propose également une large gamme de solutions de matériaux. Son système PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) ajoute des matériaux au niveau atomique permettant une uniformité et une intégrité des matériaux supérieures. Ses capacités de traitement thermique rapide permettent un dépôt rapide de la couche atomique des matériaux avec une précision et une précision inégalées. Son système réactif de gravure ionique permet également de retirer les matériaux des structures avec une grande fidélité, ce qui en fait un choix idéal pour la construction de caractéristiques délicates et complexes. Le réacteur dispose également de solutions avancées de manutention de substrat, permettant une manipulation efficace des plaquettes et des surfaces de plus haut calibre. Globalement, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000 est un réacteur avancé de dépôt et de gravure conçu pour des applications de fabrication de semi-conducteurs. Il a une variété de caractéristiques qui lui permettent de produire des rendements élevés et de maintenir une excellente précision et répétabilité. Ses solutions PECVD, de traitement thermique rapide, de gravure ionique réactive et de manipulation de substrat sont toutes en tête de gamme, ce qui en fait un choix idéal lors de la production de composants de la plus haute qualité.